[發(fā)明專利]一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610643820.1
• 申請(qǐng)日: 2016-08-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107695796B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周群飛;饒橋兵;夏本權(quán)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 藍(lán)思科技（長(zhǎng)沙）有限公司
• 主分類號(hào): B24B1/00
• 分類號(hào): B24B1/00;B24B29/02
• 代理公司: 長(zhǎng)沙七源專利代理事務(wù)所(普通合伙) 43214
• 代理人: 歐穎;吳婷

1.一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法，其特征在于，用治具將藍(lán)寶石晶磚裝夾固定在雙面拋光機(jī)的上拋光盤與下拋光盤之間，上拋光盤與下拋光盤均采用樹(shù)脂銅盤，拋光液使用鉆石拋光液，鉆石拋光液中鉆石微粉粒徑90wt％以上顆粒分布在2～7μm范圍內(nèi)，拋光液的pH＝8～11，拋光盤溫度控制在22～33℃之間，拋光過(guò)程包括先后執(zhí)行的以下三個(gè)步驟：

第一拋光步驟：拋光頭壓力控制在0.35～0.6N/cm²，上拋光盤轉(zhuǎn)速控制在10～20轉(zhuǎn)/分，下拋盤轉(zhuǎn)速控制在8～15轉(zhuǎn)/分，拋光液流量控制在15～20mL/min；

第二拋光步驟：拋光頭壓力控制在0.50～0.85N/cm²，上拋光盤轉(zhuǎn)速控制在25～30轉(zhuǎn)/分，下拋光盤轉(zhuǎn)速控制在15～20轉(zhuǎn)/分，拋光液流量控制在12～16mL/min；

第三拋光步驟：拋光頭壓力控制在0.25～0.55N/cm²，上拋光盤轉(zhuǎn)速控制在34～38轉(zhuǎn)/分，下拋光盤轉(zhuǎn)速控制在20～25轉(zhuǎn)/分，拋光液流量控制在12～16mL/min。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法，其特征在于，所述第一拋光步驟的拋光時(shí)間為7～15min，所述第二拋光步驟的拋光時(shí)間為15～25min，所述第三拋光步驟的拋光時(shí)間為5～12min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法，其特征在于，所述第一拋光步驟、第二拋光步驟及第三拋光步驟中，上拋光盤與下拋光盤的轉(zhuǎn)向均相反，且從第一拋光步驟到第三拋光步驟，上拋光盤及下拋光盤的轉(zhuǎn)速均遞增。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法，其特征在于，所述第一拋光步驟、第二拋光步驟及第三拋光步驟中，上拋光盤的轉(zhuǎn)速均大于下拋光盤的轉(zhuǎn)速。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法，其特征在于，所述第二拋光步驟的拋光液流量比第一拋光步驟的拋光液流量小，第三拋光步驟與第二拋光步驟的拋光液流量相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任意一項(xiàng)所述的一種藍(lán)寶石晶磚拋光方法，其特征在于，所述藍(lán)寶石晶磚拋光方法所拋光的藍(lán)寶石晶磚厚度大于5mm且小于100mm，長(zhǎng)寬方向的尺寸均位于35mm～220mm之間，單片晶磚的重量為50g～5000g。