[發明專利]圖案描畫裝置及圖案描畫方法

有效

• 申請號: 201610640932.1
• 申請日: 2016-08-08
• 公開（公告）號: CN107436537B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 中島瑛利子
• 申請（專利權）人: 亞得科技工程有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 田喜慶;吳孟秋

本發明提供圖案描畫裝置及圖案描畫方法。圖案描畫裝置包括：第一攝像部，讀取對準標記，并讀取位置偏差檢測用的第一圖案的圖像；第二攝像部，讀取所述第一圖案的圖像，并讀取邊進行工作臺與光學頭間的相對移動、邊通過來自所述光學頭的照射光描畫出的位置偏差檢測用的第二圖案的圖像；以及位置偏差檢測部，基于所述第一攝像部的讀取圖像求出該第一攝像部的視野中心與所述第一圖案的中心之間的第一坐標差，并基于所述第二攝像部的讀取圖像求出所述第一圖案的中心與所述第二圖案的特定位置之間的第二坐標差。

技術領域

本發明涉及從光學頭照射激光至放置于工件臺上的作為工件的基板上的感光材料來描畫布線圖案等的圖案描畫裝置及圖案描畫方法。

背景技術

在這種圖案描畫裝置中，通常，考慮到構成元素間的位置關系在實際的描畫階段與設計值并不相同而事先檢測其位置偏差，以校正描畫位置。

例如，在專利文獻1中公開有一種下述的圖案描畫裝置，其通過分別檢測用于讀取形成于基板上的、作為位置調整用的基準的對準標記(以下稱為AM)的AM用攝像機與位置偏差檢測用的校正圖案間的位置偏差、以及光學頭的脈沖光與校正圖案間的位置偏差，從而來檢測AM用攝像機與光學頭間相對于設計值的位置偏差。

位置偏差檢測動作優選在接近于實際描畫動作的狀態下進行，如果不那樣的話，甚至連該檢測時期的差異都會產生位置偏差。具體而言，工件臺相對于光學頭的相對移動動作與激光照射系統中的照射時機的時間性偏差表現為位置偏差。在要求更高精度的圖案描畫的情況下，該位置偏差將變得不可忽視，而在專利文獻1的位置偏差檢測方式中，對于這樣的問題完全未作考慮。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2008-65034號公報

發明內容

發明要解決的技術問題

因此，本發明的目的在于，在以形成于工件上的作為描畫位置的基準的對準標記的讀取位置為基準來控制放置所述工件的工作臺與光學頭間的相對移動量的圖案描畫方式中，使之能夠高精度地檢測相對于設計值的位置偏差。

用于解決技術問題的方案

在本申請公開的發明中，代表性的圖案描畫裝置具有光學頭，并以形成于工件上的作為描畫位置的基準的對準標記的讀取位置為基準控制放置所述工件的工作臺與所述光學頭間的相對移動量，使得通過所述光學頭將圖案描畫于所述工件上，其特征在于，包括：第一攝像部，讀取所述對準標記，并讀取位置偏差檢測用的第一圖案的圖像；第二攝像部，讀取所述第一圖案的圖像，并讀取邊進行所述工作臺與所述光學頭間的相對移動、邊通過來自所述光學頭的照射光描畫出的位置偏差檢測用的第二圖案的圖像；以及位置偏差檢測部，基于所述第一攝像部的讀取圖像求出該第一攝像部的視野中心與所述第一圖案的中心之間的第一坐標差，并基于所述第二攝像部的讀取圖像求出所述第一圖案的中心與所述第二圖案的特定位置之間的第二坐標差。

另外，在本申請公開的發明中，代表性的圖案描畫方法以形成于工件上的作為描畫位置的基準的對準標記的讀取位置為基準控制放置所述工件的工作臺與光學頭間的相對移動量，使得通過所述光學頭而將圖案描畫于所述工件上，其特征在于，包括：第一工序，通過用讀取所述對準標記的第一攝像部來讀取位置偏差檢測用的第一圖案的圖像，從而求出該第一攝像部的視野中心與所述第一圖案的中心之間的第一坐標差；第二工序，邊進行所述工作臺與所述光學頭間的相對移動，邊通過來自所述光學頭的照射光來描畫位置偏差檢測用的第二圖案；以及第三工序，基于讀取所述第一圖案和所述第二圖案的圖像的第二攝像部的讀取圖像而求出所述第一圖案的中心與所述第二圖案的特定位置之間的第二坐標差。

發明效果

根據本發明，在以形成于工件上的作為描畫位置的基準的對準標記的讀取位置為基準來控制放置所述工件的工作臺與光學頭間的相對移動量的圖案描畫方式中，能夠高精度地檢測相對于設計值的位置偏差。