[發明專利]發光裝置及投影系統在審
| 申請號: | 201610633378.4 | 申請日: | 2016-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN107688272A | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發明(設計)人: | 胡飛;郭祖強;李屹 | 申請(專利權)人: | 深圳市光峰光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03B21/20 | 分類號: | G03B21/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市南山區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 裝置 投影 系統 | ||
技術領域
本發明涉及投影技術領域,特別涉及一種發光裝置及投影系統。
背景技術
現有投影技術領域中,采用半導體藍光激光器激發熒光粉產生紅光和綠光,并利用半導體藍光激光器本身發射的藍光與紅光和綠光形成三基色光以調制圖像,是常用的一種方法。
如圖1所示,光源包括第一光源101,勻光器件102,區域分光片103,收集透鏡104,熒光粉色輪105,第一中繼透鏡106和第二中繼透鏡108,反射鏡107及方棒109。
如圖2所示,其中區域分光片103包括透藍反黃區域1031和反藍反黃區域1032,透藍反黃區域1031位于區域分光片的中心區域。
第一光源101為藍光激光器,其發出的藍光(激發光)經過勻光器件102,對藍光進行均勻化;然后通過區域分光片103的透藍反黃區域1031,第一光源藍光沿收集透鏡104的中心軸入射。收集透鏡104用于對激發光進行匯聚;藍光經過收集透鏡104收集后入射到熒光粉色輪105上。熒光粉色輪105包括涂覆有紅色熒光粉的第一區段、涂覆有綠色熒光粉的第二區段以及具有散射功能的第三區段。熒光粉色輪105周期性轉動,從而第一區段、第二區段和第三段分時位于藍光的光路上。藍光激發紅色熒光粉產生紅熒光(受激光)、藍光激發綠色熒光粉產生綠熒光(受激光),紅熒光以及綠熒光以朗伯光的形式出射;以及藍光經第三區段散射,也以朗伯光的形式出射,光學擴展量變大。紅熒光和綠熒光經過收集透鏡104,由區域分光片103反射。而以朗伯光形式出射的藍光,,只有反藍反黃區域1032才對其進行反射,入射到透藍反黃區域1031的藍光會因透射而損失掉;紅、綠、藍光經過中繼透鏡106、反射鏡107和中繼透鏡108進入到方棒109,最終從方棒109的出口端出射。
由于入射到方棒109的光束中,中心部分缺少藍光,因此,在從方棒109出射后,其出口的光斑面分布存在顏色不均勻的現象,中心部分偏黃,這會導致最終投影出來的畫面顏色不均勻。
上述技術方案中,區域分光片103利用激發光和受激光的光學擴展量不同來對激發光進行透射和反射,雖然激發光的光學擴展量較小,透藍反黃區域1031的面積可以適應性地設置得較小,但是不可避免的還是會損失掉一部分藍光。
發明內容
有鑒于此,本發明提供了一種發光裝置,能夠避免利用光學擴展量的不同對兩束相同顏色的光進行分離的技術方案導致的光損失,進而避免由于光損失導致的顏色分布不均勻。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種發光裝置,包括第一光源、光引導系統和波長轉換裝置;
所述第一光源用于發射第一激發光,所述第一激發光沿入射光通道入射至所述光引導系統;
所述光引導系統用于將所述第一激發光引導至所述波長轉換裝置;
所述波長轉換裝置包括反射區段,所述反射區段反射所述第一激發光形成第二激發光;
所述光引導系統還用于收集所述第二激發光,且引導所述第二激發光沿出射光通道出射;
其中,所述第一激發光與所述第二激發光的光路不重疊。
上述的發光裝置,反射區段反射第一激發光而形成第二激發光,而不對第一激發光進行散射,避免擴大第二激發光的光學擴展量,并且進一步的,光學引導系統將第二激發光沿與第一激發光的入射光路不重疊的出射光路引導至出射光通道出射,避免利用第一激發光和第二激發光的光學擴展量不同對第一激發光入射光路和第二激發光的出射光路進行分離,從而避免第二激發光沿第一激發光的入射光路損失部分光,因此,有效地提高了光的利用率,進而也避免了由于光損失而導致的顏色分布不均勻問題。
在一個實施例中,所述波長轉換裝置還包括波長轉換區段,所述波長轉換裝置周期性運動以使得所述反射區段和波長轉換區段分時位于所述第一激發光的光路上;
所述波長轉換區段受所述第一激發光的激發而產生受激光;
所述光引導系統還用于收集所述受激光,且引導所述受激光沿所述出射光通道出射。
在一個實施例中,從所述波長轉換裝置出射的第二激發光的主光軸與所述波長轉換裝置出射的受激光的主光軸不重合;
所述光引導系統還用于使得所述第二激發光的主光軸與所述受激光的主光軸平行且距離小于閾值。
本實施例使得所述第二激發光的主光軸與所述受激光的主光軸平行且距離小于閾值,有助于對第二激發光與受激光進行進一步處理;例如,采用勻光元件進一步對第二激發光和受激光進行勻光時,可有助于使得從勻光元件出射的第二激發光和受激光具有相同的分布均勻性。
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