[發(fā)明專利]一種鞋底表面鍍膜方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610626833.8
• 申請(qǐng)日: 2016-08-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107686974A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊與暢
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福建新峰二維材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/20;C23C14/02
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：包括以下步驟：

對(duì)鞋底進(jìn)行清洗及干燥；

對(duì)干燥后的鞋底進(jìn)行Plasma表面處理；

對(duì)經(jīng)Plasma表面處理后的鞋底進(jìn)行磁控濺射真空鍍膜，所述磁控濺射真空鍍膜為將Plasma表面處理后的鞋底，通入100-500sccm氬氣，鍍膜真空度保持在0.1-1Pa，在功率2-10KW下輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)氬氣電離產(chǎn)生等離子體，等離子體將靶材的原子擊出沉積在鞋底上，鍍膜時(shí)間0.5-30min，得到5-5000nm的鍍膜層后，破真空將鞋底傳出；

對(duì)完成鍍膜工藝的鞋底進(jìn)行噴涂UV涂層及固化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：所述Plasma表面處理為通過(guò)等離子體轟擊對(duì)鞋底表面進(jìn)行清潔處理，其中在真空度0.5-2Pa、電壓1-3KV、電流在0.5-1A并通入300-1000sccm處理氣體的plasma處理室進(jìn)行，讓處理氣體產(chǎn)生電離，電離的氣體離子轟擊鞋底表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：所述處理氣體為氫氣、氧氣、氬氣中的至少一種，轟擊時(shí)間為60S-180S。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：所述UV涂層厚度在5-30um之間，UV涂層采用UV固化，UV能量為1000-5000mj/cm²。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：所述對(duì)經(jīng)Plasma表面處理后的鞋底進(jìn)行磁控濺射真空鍍膜為先在鞋底表面鍍一層Ti金屬膜，再在Ti金屬膜上鍍上鍍膜層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：所述鍍膜層為鋁、銅、鈦、銀、鎳、銦、錫中任意一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述一種鞋底表面鍍膜方法，其特征在于：所述鍍膜層為金屬?gòu)?fù)合物：氮化鈦、氮化硅、鎳銅、鎳鉻中任意一種。