[發明專利]一種錯位布置的雙固定室雙束照射的質子治療系統有效
| 申請號： | 201610617089.5 | 申請日： | 2016-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN106139421B | 公開（公告）日： | 2019-05-21 |
| 發明（設計）人： | 張天爵;魏素敏;王峰;鄭俠 | 申請（專利權）人： | 中國原子能科學研究院 |
| 主分類號： | A61N5/10 | 分類號： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 102413 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 錯位 布置 固定 室雙束 照射 質子 治療 系統 | ||
【權利要求書】：
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