[發明專利]一種投影物鏡

有效

• 申請號: 201610608624.0
• 申請日: 2016-07-29
• 公開（公告）號: CN107664809B
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 盧麗榮
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B1/00
• 代理公司: 31237 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 屈蘅;李時云<國際申請>=<國際公布>=

本發明提供一種投影物鏡，所述投影物鏡至少由23片透鏡組成，所述投影物鏡從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組和第三透鏡組，所述投影物鏡的有效焦距f1與所述投影物鏡的物面至像面的距離L滿足0.1<|L/f1|<0.75，所述投影物鏡的物方遠心角度θ滿足5mrad<θ<7mrad。本發明提供的投影物鏡至少由23片透鏡組成，通過所述投影物鏡的有效焦距f1與所述投影物鏡的物面至像面的距離L滿足0.1<|L/f1|<0.75以及所述投影物鏡的物方遠心角度為5mrad<θ<7mrad，既可降低本系統對于鏡面上由于加工產生的不平整度的敏感度，又提高物面對畸變的靈敏度，從而具有獨立調整畸變的功能，從而提高像質的補償效果，在提高像質的同時所述投影物鏡減少了透鏡的數量，從而降低了投影物鏡使用透鏡的成本。

技術領域

本發明涉及半導體制造技術領域，尤其涉及一種投影物鏡。

背景技術

經過半個世紀的高速發展，依托于集成電路(IC)的半導體技術已經對人類社會的發展產生了革命性的影響。其中，光刻設備作為必不可少的設備，可將所需圖案應用于工件上的目標部分上。光刻設備能夠被用于例如集成電路的制造。通常，光刻設備的范圍包括但不限于：集成電路制造光刻裝置、平板顯示面板光刻裝置、MEMS/MOEMS光刻裝置、先進封裝光刻裝置、印刷電路板光刻裝置、印刷電路板加工裝置以及印刷電路板器件貼裝裝置等。

目前在光刻設備上，微米級分辨率，高產率的投影物鏡光學系統需求日益增加，如授權公告號為CN103364928B的發明專利公開了一種投影物鏡光學系統，如圖1所示，整個投影物鏡共包括29片光學透鏡，沿光線傳播方向依次排列，根據光焦度的分布情況可以分成五組，分別是第一透鏡組S1、第二透鏡組S2、第三透鏡組S3、第四透鏡組S4和第五透鏡組S5。然而該專利缺點在于：對像質的補償效果不好，導致在整機調試過程中，需要很多的補償鏡片才能補償，增加了產品成本。如何提高像質的補償效果并降低成本成為本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種投影物鏡，以解決現有的投影物鏡的像質的補償效果不高以及成本高的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種投影物鏡，所述投影物鏡至少由23片透鏡組成，所述投影物鏡從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組和第三透鏡組，所述第一透鏡組的光焦度為正，所述第二透鏡組的光焦度為負，所述第三透鏡組的光焦度為正，所述投影物鏡的有效焦距f1與所述投影物鏡的物面至像面的距離L滿足0.1<|L/f1|<0.75，所述投影物鏡的物方遠心角度θ滿足5mrad<θ<7mrad。

優選的，在所述投影物鏡中，所述第一透鏡組至少由四片透鏡組成，所述第一透鏡組至少有一個光焦度為正的第一透鏡和至少有一個光焦度為負的第二透鏡，所述第一透鏡與所述第二透鏡組成無焦系統。

優選的，在所述投影物鏡中，所述第一透鏡組的四片透鏡的材料為如下三種情況之一，第一種情況：四片透鏡的材料覆蓋了高折射率材料低阿貝數、高折射率材料中阿貝數與低折射率材料高阿貝數三類；第二種情況：四片透鏡的材料覆蓋了高折射率材料低阿貝數與高折射率材料中阿貝數兩類；第三種情況：四片透鏡的材料覆蓋了高折射率材料低阿貝數與低折射率材料高阿貝數兩類；其中，高折射率材料低阿貝數是指材料的I線折射率大于1.56且阿貝數小于54，高折射率材料中阿貝數是指材料的I線折射率大于1.56且阿貝數大于54小于64，低折射率材料高阿貝數是指材料的I線折射率小于1.54且阿貝數大于64。

優選的，在所述投影物鏡中，所述第一透鏡組的四片透鏡的材料至少包含2個以上的高折射率材料中阿貝數或低折射率材料高阿貝數。

優選的，在所述投影物鏡中，所述第一透鏡組的四片透鏡的光焦度依次為負、正、正和正。