[發明專利]抗靜電的方型混緯回梭擺桿在審
| 申請號: | 201610589081.2 | 申請日: | 2016-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN107653555A | 公開(公告)日: | 2018-02-02 |
| 發明(設計)人: | 包剛 | 申請(專利權)人: | 江陰市京臻機械有限公司 |
| 主分類號: | D03D51/02 | 分類號: | D03D51/02;D03D47/24;B05D5/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214415 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抗靜電 方型 混緯回梭擺桿 | ||
1.一種抗靜電的方型混緯回梭擺桿,其特征在于:所述方型混緯回梭擺桿包括方型混緯回梭擺桿本體(1),所述方型混緯回梭擺桿本體(1)的底部設置成方形;所述方型混緯回梭擺桿本體(1)的頭部設有第一圓形通孔(2),所述方型混緯回梭擺桿本體(1)的頭部設置成圓形,且與第一圓形通孔(2)共圓心;所述方型混緯回梭擺桿本體(1)的左右兩個側面分別設有一定的錐度;所述方型混緯回梭擺桿本體(1)在中間位置處開有若干個第二圓形通孔(3),所述的方型混緯回梭擺桿本體(1)的表面涂覆有防靜電涂層,所述防靜電涂層由下列質量百分含量的組分組成:硅石顆粒5%,平均分子量為500~2000的丙烯酸多元醇30%,平均分子量為200~2500的聚氧化烯系列多元醇的樹脂30%,聚乙二醇20%,環甲基硅氧烷5%,10%的1-羥基環己基苯基甲酮-光引發劑184;所述硅石顆粒的粒徑為由激光衍射·散射法測定的粒度分布中粒徑在0 .1 ~ 2μm和1 .5 ~ 5μm的范圍內分別具有峰值、且平均粒徑為4μm或以下; 所述防靜電涂層采用紫外線波段為280nm~350nm,照度為1200mW/cm2,對所述霧面防靜電涂層進行照射,使所述組分在1-羥基環己基苯基甲酮-光引發劑184的作用下進行聚合反應得到所述耐刮涂層材料。
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