[發明專利]原位調控材料微結構制備熔石英微透鏡陣列的方法

有效

• 申請號: 201610585108.0
• 申請日: 2016-07-22
• 公開（公告）號: CN106125166B
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發明（設計）人: 張傳超;廖威;楊科;王海軍;張麗娟;陳靜;蔣一嵐;蔣曉龍;欒曉雨;周海;袁曉東;鄭萬國
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 重慶為信知識產權代理事務所(普通合伙)50216
• 代理人: 龍玉洪

1.一種原位調控材料微結構制備熔石英微透鏡陣列的方法，其特征在于，按照以下步驟進行：

S1：設置二氧化碳激光器的參數；

S2：使用聲光調制器從二氧化碳激光器獲得頻率和脈寬均穩定的二氧化碳激光；

S3：對二氧化碳激光擴束后，使用掃描場鏡對二氧化碳激光進行聚焦；

S4：設置振鏡逐行掃描的掃描路徑，并設置掃描速度以及掃描行間距；

S5：將熔石英樣品置于二氧化碳激光的焦點處，利用振鏡驅動聚焦后的二氧化碳激光輻照熔石英樣品的表面，以改變熔石英樣品受二氧化碳激光輻照位置的熔石英材料微結構，使熔石英樣品上形成多個微結構調控區，所有的微結構調控區共同構成材料微結構調控區陣列，其中，所述熔石英材料微結構為熔石英材料處于假想溫度狀態下的結構狀態；

S6：采用兆聲波配合氫氟酸溶液刻蝕熔石英樣品，利用不同假想溫度的熔石英材料的受氫氟酸作用的刻蝕速度的巨大差異，通過氫氟酸刻蝕熔石英材料受二氧化碳激光輻照形成的微結構調控區陣列，呈現出微結構調控區陣列輪廓，形成凹面微透鏡陣列，即得到熔石英微透鏡陣列。

2.根據權利要求1所述的原位調控材料微結構制備熔石英微透鏡陣列的方法，其特征在于：步驟S4中，所述掃描路徑為正方形堆積排列或六角形堆積排列。

3.根據權利要求1或2所述的原位調控材料微結構制備熔石英微透鏡陣列的方法，其特征在于：步驟S4中，設置掃描相鄰行之間的出光延遲時間。

4.根據權利要求1或2所述的原位調控材料微結構制備熔石英微透鏡陣列的方法，其特征在于：步驟S5中，需對熔石英樣品進行預拋光。