[發(fā)明專利]一種基于晶體光致相變的智能復(fù)合材料及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610584431.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-07-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106279745B | 公開(公告)日: | 2019-07-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于海峰;胡婧;李曉;王文忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C08J7/06 | 分類號(hào): | C08J7/06;C08L23/06;C08L79/08 |
| 代理公司: | 北京萬象新悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11360 | 代理人: | 李稚婷 |
| 地址: | 100871*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 智能復(fù)合材料 復(fù)合薄膜 可用 機(jī)械能 退火 聚合物薄膜 微溝槽結(jié)構(gòu) 微機(jī)械系統(tǒng) 波長光照 光能轉(zhuǎn)換 基底表面 機(jī)械系統(tǒng) 晶體材料 摩擦處理 柔性環(huán)境 柔性基底 功能化 光驅(qū)動(dòng) 光響應(yīng) 小分子 形變量 卷曲 可逆 可控 涂覆 裁剪 關(guān)節(jié) 肌肉 變形 響應(yīng) | ||
1.一種光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料,包括柔性基底和光活性層,其中:所述柔性基底為聚合物薄膜,其表面經(jīng)摩擦處理為微溝槽結(jié)構(gòu);所述光活性層由可發(fā)生光致相變的小分子光響應(yīng)晶體材料構(gòu)成,這些小分子光響應(yīng)晶體材料沿聚合物表面的微溝槽規(guī)則取向;所述小分子光響應(yīng)性晶體材料是式I所示的偶氮苯類分子:
式I中,R1,R2和R3為烷基或者烷氧基。
2.如權(quán)利要求1所述的光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料,其特征在于,所述聚合物薄膜的材料選自下列材料中的一種或多種:低密度聚乙烯、聚酰亞胺、乙烯-醋酸乙烯共聚物和聚偏氟乙烯及其共聚物;聚合物薄膜的厚度為10~50微米。
3.如權(quán)利要求1所述的光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料,其特征在于,所述光響應(yīng)層的厚度為1~50微米。
4.如權(quán)利要求1所述的光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料,其特征在于,所述小分子光響應(yīng)性晶體材料選自下列化合物中的一種:
5.權(quán)利要求1~4任意一項(xiàng)所述光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料的制備方法,包括以下步驟:
1)以聚合物薄膜為基底,沿一個(gè)方向摩擦基底表面,獲得微溝槽結(jié)構(gòu);
2)配制小分子光響應(yīng)晶體材料溶液,將該溶液涂覆于步驟1)摩擦過的基底表面,得到復(fù)合薄膜;
3)將復(fù)合薄膜退火處理,制得所述光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料。
6.如權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,步驟2)中所述小分子光響應(yīng)晶體材料溶液的濃度為0.1~10wt%,涂覆形成厚度1~50微米的小分子光響應(yīng)層。
7.如權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,步驟3)在真空烘箱中進(jìn)行退火,退火時(shí)間2~24h。
8.權(quán)利要求1~4任意一項(xiàng)所述光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料作為光-機(jī)械能轉(zhuǎn)換材料的應(yīng)用。
9.如權(quán)利要求8所述的應(yīng)用,其特征在于,將所述光驅(qū)動(dòng)復(fù)合材料的薄膜采用特定角度、特定長寬比進(jìn)行裁剪,獲得特定的可逆光驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)性能。
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