[發明專利]等離子體處理裝置有效
| 申請號： | 201610581053.6 | 申請日： | 2016-07-21 |
| 公開（公告）號： | CN106373850B | 公開（公告）日： | 2018-06-22 |
| 發明（設計）人： | 出口新悟;笠原稔大;山田洋平 | 申請（專利權）人： | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人： | 龍淳;朱弋 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體處理裝置 處理空間 絕緣部件 金屬窗 被處理基板 等離子體處理 等離子體耐性 等離子體天線 導電性 等離子體化 處理氣體 處理容器 封閉處理 感應耦合 接地 金屬制 上表面 樹脂制 陶瓷制 載置臺 輕量 載置 開口 覆蓋 | ||
【說明書】：
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