[發明專利]光學投影陣列曝光系統有效
| 申請號： | 201610577265.7 | 申請日： | 2013-06-04 |
| 公開（公告）號： | CN106168738B | 公開（公告）日： | 2019-08-13 |
| 發明（設計）人： | 大衛·馬克爾;托馬斯·萊迪格;杰弗瑞·卡斯基;陳正方 | 申請（專利權）人： | 應用材料公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人： | 孫洋 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 投影 陣列 曝光 系統 | ||
【說明書】：
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