[發明專利]用于控制輻照系統的方法和裝置及用于制作工件的設備有效
| 申請號： | 201610575789.2 | 申請日： | 2016-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN106363768B | 公開（公告）日： | 2019-02-15 |
| 發明（設計）人： | 安德里亞斯·維斯納;迪特爾·施瓦策;托尼·亞當·克羅爾 | 申請（專利權）人： | SLM方案集團股份公司 |
| 主分類號： | B28B1/00 | 分類號： | B28B1/00;B22F3/105;B33Y50/02;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 李丙林;曹桓 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 控制 輻照 系統 方法 裝置 制作 工件 設備 | ||
【說明書】：
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