[發明專利]層間距可控的氧化石墨烯膜及其制備方法、應用有效
| 申請號： | 201610575159.5 | 申請日： | 2016-07-20 |
| 公開（公告）號： | CN107640765B | 公開（公告）日： | 2019-05-21 |
| 發明（設計）人： | 方海平;吳明紅;石國升;徐剛;陳亮 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海應用物理研究所;上海大學 |
| 主分類號： | C01B32/198 | 分類號： | C01B32/198;B01D71/02;B01D69/02;B01D67/00;B01D61/00 |
| 代理公司： | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人： | 薛琦;張佶穎 |
| 地址： | 201800 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 間距 可控 氧化 石墨 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種層間距可控的氧化石墨烯膜的制備方法，其特征在于，其包括下述步驟：將氧化石墨烯膜浸潤在鹽的水溶液A中浸潤至溶脹后，即得層間距可控的氧化石墨烯膜；
其中，所述鹽的水溶液A為含有金屬陽離子的溶液，所述水溶液A中，所述金屬陽離子的濃度為0.25～2.5mol/L。
2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述氧化石墨烯膜由氧化石墨烯溶液通過滴筑法或抽濾法制得。
3.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述滴筑法制備氧化石墨烯膜的方法包括下述步驟：取3～5mg/mL氧化石墨烯溶液0.8～1.2mL，滴在紙片上，經第一次干燥后，用去離子水反復淋洗，在去離子水中浸泡半小時后取出，經第二次干燥后即得。
4.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述第一次干燥為55～65℃干燥5～7h；
和/或，所述第二次干燥為55～65℃干燥11～13h。
5.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述第一次干燥為60℃干燥6h。
6.如權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述第二次干燥為60℃干燥12h。
7.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述浸潤的過程中，環境溫度為17～23℃；
所述金屬陽離子的種類為K+、Na+、Li+、Ca2+和Mg2+中的一種或多種；
所述水溶液A中，pH值為5～8；
和/或，所述浸潤的時間為1～3h。
8.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述浸潤的過程中，環境溫度為20℃。
9.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述水溶液A中，pH值為7。
10.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述鹽的水溶液A中，含有的陰離子為能夠滿足水合陰離子的尺寸小于水合金屬陽離子尺寸的陰離子；
所述鹽的水溶液A中，當金屬陽離子為K+時，所述陰離子除包括OH-外，還包括F-、Cl-、Br-、I-和NO3-中的一種或多種；
和/或，所述鹽的水溶液A中，當金屬陽離子為Na+、Li+或Ca2+時，所述陰離子除包括OH-外，還包括F-、Cl-、Br-、I-和NO3-中的一種或多種；
和/或，所述鹽的水溶液A中，當金屬陽離子為Mg2+時，所述陰離子除包括OH-外，還包括F-、Cl-、Br-、I-、SO42—和NO3-中的一種或多種。
11.如權利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述陰離子除含有OH-外，還含有Cl-、F-、Br-、SO42-和NO3-中的一種或多種。
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