[發明專利]泡沫鉻及其制備方法有效
| 申請號: | 201610568973.4 | 申請日: | 2016-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN106048705B | 公開(公告)日: | 2018-01-16 |
| 發明(設計)人: | 張波;馮海濤;李波;李武;董亞萍;梁建;鄭竹林 | 申請(專利權)人: | 中國科學院青海鹽湖研究所 |
| 主分類號: | C25F3/08 | 分類號: | C25F3/08;C25F3/14;C22C1/08 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304 | 代理人: | 孫偉峰,黃進 |
| 地址: | 810008*** | 國省代碼: | 青海;63 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 泡沫 及其 制備 方法 | ||
1.一種泡沫鉻的制備方法,所述泡沫鉻包括鉻骨架以及位于所述鉻骨架內部且彼此貫通的多個孔室;其特征在于,包括步驟:
A、將含鉻固體置于酸性電解液中;
B、對所述含鉻固體進行電蝕刻,以形成鉻骨架及位于所述鉻骨架內部且彼此貫通的多個孔室。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,在所述步驟B中,采用方波電位法對所述含鉻固體進行電蝕刻。
3.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,采用方波電位法對所述含鉻固體進行電蝕刻時,工作電極為所述含鉻固體,對電極的材料選自不銹鋼、鉛、鈦合金、金、鉑中的任意一種。
4.根據權利要求2或3所述的制備方法,其特征在于,采用方波電位法對所述含鉻固體進行電蝕刻時,電位上限為0.5V~6V,電位下限為-6V~3V,方波頻率為0.01Hz~1000Hz,電蝕刻的時間為10s~600min,所述酸性電解液的溫度為20℃~100℃;其中,所述電位上限和所述電位下限均以飽和甘汞電極作為參比電極進行測定時獲得。
5.根據權利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述酸性電解液選自硫酸水溶液、鹽酸水溶液、硝酸水溶液、磷酸水溶液、檸檬酸水溶液、醋酸水溶液、抗壞血酸水溶液中的任意一種或至少兩種的混合。
6.根據權利要求5所述的制備方法,其特征在于,所述酸性電解液的pH為0~3。
7.根據權利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,對所述含鉻固體進行電蝕刻時,所述酸性電解液呈流動狀態。
8.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述酸性電解液流動時的流量不超過10m3/h。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院青海鹽湖研究所,未經中國科學院青海鹽湖研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610568973.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





