[發(fā)明專利]一種三維太赫茲層析成像系統(tǒng)及掃描和圖像重建方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610565144.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-07-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107631995B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 牛麗婷;王可嘉;劉昌明;楊振剛;魏旭立;劉勁松 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/3581 | 分類號(hào): | G01N21/3581;G01N21/3563;G01N21/01 |
| 代理公司: | 42201 華中科技大學(xué)專利中心 | 代理人: | 趙偉 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 投影數(shù)據(jù) 圖像重建 吸收率 層析成像系統(tǒng) 掃描 三維 光束光強(qiáng)分布 太赫茲發(fā)射源 太赫茲探測(cè)器 鎖相放大器 成像技術(shù) 成像系統(tǒng) 光束傳輸 實(shí)際樣品 透射光強(qiáng) 圖像模糊 旋轉(zhuǎn)平移 有效解決 去卷積 探測(cè)點(diǎn) 樣品臺(tái) 斬波器 單頻 近似 記錄 | ||
1.一種基于三維太赫茲層析成像系統(tǒng)的掃描方法,所述三維太赫茲層析成像系統(tǒng)包括:太赫茲發(fā)射源、斬波器、樣品臺(tái)、光束傳輸單元、太赫茲探測(cè)器以及鎖相放大器;所述太赫茲發(fā)射源與太赫茲探測(cè)器分別固定于兩個(gè)步進(jìn)電機(jī)上,且太赫茲發(fā)射源和太赫茲探測(cè)器始終處于同一直線上;所述太赫茲發(fā)射源用于提供連續(xù)的太赫茲光束;斬波器用于對(duì)所述連續(xù)太赫茲光束進(jìn)行調(diào)制,獲得時(shí)域矩形波信號(hào);所述樣品臺(tái)用于放置樣品,并實(shí)現(xiàn)樣品的平移和旋轉(zhuǎn);所述光束傳輸單元用于對(duì)時(shí)域矩形波信號(hào)進(jìn)行準(zhǔn)直和聚焦處理,聚焦的光束入射至位于樣品臺(tái)上的樣品,從樣品透射出來(lái)的光經(jīng)過(guò)光束傳輸單元的再次準(zhǔn)直、聚焦處理,形成聚焦的透射光束;太赫茲探測(cè)器用于探測(cè)所述透射光束的光強(qiáng),并將光強(qiáng)轉(zhuǎn)換為電流信號(hào);鎖相放大器用于將所述電流信號(hào)轉(zhuǎn)換為電壓信號(hào)并放大;外部計(jì)算機(jī)根據(jù)放大的電壓信號(hào)獲得樣品的投影信息;其特征在于,包括如下步驟:
(1)將太赫茲發(fā)射源發(fā)射的連續(xù)太赫茲光束調(diào)制成時(shí)域矩形波;
(2)對(duì)時(shí)域矩形波進(jìn)行聚焦處理,形成第一聚焦光束,采用第一聚焦光束對(duì)樣品進(jìn)行掃描;
(3)對(duì)樣品的出射光進(jìn)行聚焦處理,形成第二聚焦光束;
(4)探測(cè)第二聚焦光束的光強(qiáng),并將光強(qiáng)轉(zhuǎn)換為電流信號(hào);
(5)將電流信號(hào)轉(zhuǎn)換成電壓信號(hào)并放大;
(6)根據(jù)放大的電壓信號(hào)得到樣品的二維投影矩陣g(θ,nx);其中,θ是指樣品的旋轉(zhuǎn)角度;nx是指樣品在水平方向上平移的點(diǎn)數(shù);
(7)控制樣品在水平方向平移并繞豎直方向旋轉(zhuǎn),并控制太赫茲發(fā)射源與太赫茲探測(cè)器在豎直方向上同步平移,重復(fù)步驟(1)~(6),獲得樣品在不同高度的二維投影矩陣,將所有二維投影矩陣沿豎直方向疊加,獲得樣品的三維投影矩陣g(ny,θ,nx);ny指樣品在豎直方向上平移的點(diǎn)數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的掃描方法,其特征在于,所述樣品臺(tái)包括一個(gè)直線步進(jìn)電機(jī)和一個(gè)旋轉(zhuǎn)步進(jìn)電機(jī);所述旋轉(zhuǎn)步進(jìn)電機(jī)固定在直線步進(jìn)電機(jī)上,所述直線步進(jìn)電機(jī)用于實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)步進(jìn)電機(jī)和樣品同步平移,所述旋轉(zhuǎn)步進(jìn)電機(jī)用于實(shí)現(xiàn)樣品的旋轉(zhuǎn)。
3.如權(quán)利要求1所述的掃描方法,其特征在于,所述光束傳輸單元包括第一準(zhǔn)直聚焦模塊和第二準(zhǔn)直聚焦模塊;
所述第一準(zhǔn)直聚焦模塊的中心軸與第二準(zhǔn)直聚焦模塊的中心軸處于同一直線上,第一準(zhǔn)直聚焦模塊的焦平面與第二準(zhǔn)直聚焦模塊的焦平面處于同一平面上,并且焦點(diǎn)重合;
所述第一準(zhǔn)直聚焦模塊用于對(duì)時(shí)域矩形波信號(hào)進(jìn)行匯聚,縮小光束束腰;所述第二準(zhǔn)直聚焦模塊用于對(duì)樣品的出射光束進(jìn)行匯聚,形成聚焦的透射光束。
4.如權(quán)利要求3所述的掃描方法,其特征在于,所述第一準(zhǔn)直聚焦模塊包括第一準(zhǔn)直透鏡,以及位于所述第一準(zhǔn)直透鏡出射方向的第一聚焦透鏡;所述第二準(zhǔn)直聚焦模塊包括第二準(zhǔn)直透鏡,以及位于所述第二準(zhǔn)直透鏡出射方向的第二聚焦透鏡。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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