[發明專利]鍋具及其制備方法和烹飪器具有效
| 申請號: | 201610557555.5 | 申請日: | 2016-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN107616670B | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 李康;曹達華;楊玲;李興航;李寧;李洪偉 | 申請(專利權)人: | 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司;美的集團股份有限公司 |
| 主分類號: | A47J27/00 | 分類號: | A47J27/00;A47J36/00;A47J36/04;A47J36/02;A47J37/10;A47J37/01;C09D1/00 |
| 代理公司: | 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
| 地址: | 528311 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 及其 制備 方法 烹飪 器具 | ||
1.一種鍋具,其特征在于,包括:
鍋本體,所述鍋本體由竹炭或石墨制成;和
耐磨不粘涂層,附設在所述鍋本體的內壁面上;
所述耐磨不粘涂層為陶瓷涂層;所述陶瓷涂層包括:
陶瓷底層,附設在所述鍋本體的內壁面上;和
陶瓷面層,附設在所述陶瓷底層的層面上;
所述陶瓷底層為無機硅和部分有機物的混合物;
所述陶瓷面層包括無機硅陶瓷涂層,所述陶瓷底層的致密度高于所述陶瓷面層的致密度。
2.根據權利要求1所述的鍋具,其特征在于,
所述陶瓷底層的厚度為10μm~35μm;
所述陶瓷面層的厚度為10μm~25μm。
3.根據權利要求1或2所述的鍋具,其特征在于,還包括:
粗糙層,所述鍋本體的內壁面上形成有所述粗糙層,且所述耐磨不粘涂層附設在所述粗糙層的層面上。
4.根據權利要求3所述的鍋具,其特征在于,
所述粗糙層的粗糙度為10μm~30μm。
5.根據權利要求1或2所述的鍋具,其特征在于,
所述鍋本體為熱壓成型的一體式結構,且所述鍋本體的致密度為1.5g/cm3~1.8g/cm3。
6.根據權利要求1或2所述的鍋具,其特征在于,
所述鍋本體的厚度為5mm~12mm。
7.一種烹飪器具,其特征在于,包括如權利要求1至6中任一項所述的鍋具。
8.一種鍋具的制備方法,用于制備如權利要求1至6中任一項所述的鍋具,其特征在于,包括:
步驟S10:用竹炭或石墨制備鍋本體;
步驟S20:在所述鍋本體的內壁面上制備耐磨不粘涂層。
9.根據權利要求8所述的鍋具的制備方法,其特征在于,所述步驟S20具體包括:
步驟S206:將涂料噴涂到所述鍋本體的內壁面上;
步驟S208:將噴涂有涂料的所述鍋本體送入鼓風干燥通道爐中,使所述涂料燒結固化,形成所述耐磨不粘涂層。
10.根據權利要求9所述的鍋具的制備方法,其特征在于,
所述涂料為陶瓷涂料。
11.根據權利要求10所述的鍋具的制備方法,其特征在于,
所述涂料的主劑包括SiO2。
12.根據權利要求10所述的鍋具的制備方法,其特征在于,所述步驟S206具體包括:
步驟S2062:在所述鍋本體的內壁面上噴涂底油,使所述鍋本體的內壁面上形成陶瓷底層;
步驟S2064:在所述底油的層面上噴涂面油,使所述陶瓷底層的層面上形成陶瓷面層。
13.根據權利要求12所述的鍋具的制備方法,其特征在于,
在所述步驟S2062中,所述陶瓷底層的厚度為10μm~35μm;
在所述步驟S2064中,所述陶瓷面層的厚度為10μm~25μm。
14.根據權利要求9所述的鍋具的制備方法,其特征在于,所述步驟S208具體包括:
步驟S2082:在第一設定溫度下加熱第一設定時間,以除去所述涂料中的溶劑;
步驟S2084:在第二設定溫度下加熱第二設定時間,以使所述涂料固化,形成所述耐磨不粘涂層;
其中,所述第一設定溫度小于所述第二設定溫度。
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