[發(fā)明專利]一種基于儀器特征矩陣的干涉光譜儀光譜復(fù)原方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610556164.1 | 申請(qǐng)日: | 2016-07-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106248209B | 公開(公告)日: | 2018-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李立陽;張桂峰;明星;呂群波;周錦松;黃旻;趙寶瑋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電研究院 |
| 主分類號(hào): | G01J3/45 | 分類號(hào): | G01J3/45 |
| 代理公司: | 北京凱特來知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11260 | 代理人: | 鄭立明,鄭哲 |
| 地址: | 100080 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 儀器 特征 矩陣 干涉 光譜儀 光譜 復(fù)原 方法 | ||
1.一種基于儀器特征矩陣的干涉光譜儀光譜復(fù)原方法,其特征在于,包括:
建立包含儀器特征矩陣、光譜數(shù)據(jù)、干涉數(shù)據(jù)及探測器噪聲的誤差方程組;所述儀器特征矩陣包括:系統(tǒng)誤差,以及經(jīng)矩陣變換后將影響復(fù)原光譜精度及分辨率的因素;
將探測器噪聲、給定的光譜數(shù)據(jù),以及通過探測器測得的給定的光譜數(shù)據(jù)相對(duì)應(yīng)的干涉數(shù)據(jù)A帶入所述誤差方程組,求解出儀器特征矩陣;
在之后的干涉光譜儀工作過程中,根據(jù)待復(fù)原光譜數(shù)據(jù)、所述探測器噪聲、求解出的儀器特征矩陣以及利用探測器測得所述待復(fù)原的光譜數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的干涉數(shù)據(jù)B來建立矩陣方程;
利用所述探測器噪聲來確定權(quán)矩陣,獲得所述矩陣方程的最小二乘條件,并結(jié)合求解出的儀器特征矩陣與干涉數(shù)據(jù)B來獲得待復(fù)原光譜數(shù)據(jù)的最小二乘解,實(shí)現(xiàn)光譜復(fù)原。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述探測器噪聲為隨機(jī)白噪聲,與探測器位置相關(guān);包括:光子散彈噪聲、轉(zhuǎn)移噪聲、電阻熱噪聲、反射噪聲、低通濾波器的輸入噪聲;
這五項(xiàng)噪聲均服從正態(tài)分布,則加權(quán)之和也服從均值為各自均值加權(quán)之和、方差為各自加權(quán)平方后方差之和的正態(tài)分布;將這五項(xiàng)噪聲綜合成一個(gè)噪聲,綜合后的噪聲為均值為0的正態(tài)分布隨機(jī)噪聲。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,
所述儀器特征矩陣中的系統(tǒng)誤差包括:光場誤差與擴(kuò)展光源誤差;其中,光場誤差表現(xiàn)形式是對(duì)光譜進(jìn)行調(diào)制,調(diào)制函數(shù)為EF=fF(v,X,Y),式中的v為波數(shù),X,Y為二維坐標(biāo)參數(shù),fF為計(jì)算EF的函數(shù);擴(kuò)展光源誤差對(duì)振幅及相位均有影響,且其與光程差x、波數(shù)v及入射光源所張立體角Ω有關(guān),所述擴(kuò)展光源誤差分為兩個(gè)部分表示:對(duì)光譜振幅進(jìn)行調(diào)制的函數(shù)EΩ1=fA(v,Ω,x),對(duì)相位調(diào)制的函數(shù)EΩ2=fS(v,Ω,x),式中的fA、fS分別為計(jì)算EΩ1、EΩ2的函數(shù);
所述儀器特征矩陣中的經(jīng)矩陣變換后后將影響復(fù)原光譜精度及分辨率的因素包括:探測器尺寸、光程差的非均勻采樣以及零光程差的漂移;其中探測器具有一定尺寸這一特性對(duì)光譜和相位都進(jìn)行了調(diào)制,光譜調(diào)制函數(shù)為Ed1=fdA(v,d,x),相位調(diào)制函數(shù)為Ed2=fdS(v,d,x),式中的fdA、fdS分別為計(jì)算Ed1、Ed2的函數(shù);光程差的非均勻采樣以及零光程差的漂移使相位發(fā)生改變,這些誤差綜合表示為Ep=fp(v,x,X,Y),式中的fp為計(jì)算Ep的函數(shù)。
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