[發(fā)明專利]樣品單元在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610550320.3 | 申請日： | 2016-07-13 |
| 公開（公告）號： | CN107305183A | 公開（公告）日： | 2017-10-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 保羅·布萊克;科林·拉姆斯登 | 申請（專利權(quán)）人： | 卡斯卡德技術(shù)控股有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/01 | 分類號： | G01N21/01;G01N21/31 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人： | 穆彬 |
| 地址： | 英國斯*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 樣品 單元 | ||
1.一種光學單元，其包括：
相對的第一反射元件和第二反射元件；
在第一反射元件中的入口孔；和
在第二反射元件中的出口孔；
其中所述入口孔和所述出口孔被配置成使得在操作過程中經(jīng)由所述入口孔引入到光學單元內(nèi)的光在經(jīng)由所述出口孔離開光學單元之前，由所述第二反射元件反射至少一次以及由所述第一反射元件反射至少一次。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學單元，其中所述光學單元包括赫里奧特類型的單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學單元，其中由光在所述入口孔和所述出口孔之間行進的路徑限定路徑長度，并且光學單元還包括：
調(diào)節(jié)設(shè)備，其用于獲取所述第二反射元件和所述第一反射元件的相對移動以使得所述光學單元的路徑長度被改變。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學單元，其中所述調(diào)節(jié)設(shè)備被配置成通過改變在進入光學單元和離開光學單元之間進行的光反射次數(shù)來改變路徑長度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的光學單元，其中所述相對移動包括所述第二反射元件和/或所述第一反射元件的旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項所述的光學單元，其中所述相對移動包括所述第二反射元件和/或所述第一反射元件的平移。
7.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的光學單元，其中在操作過程中，所述光在多個第一反射點處從第一反射元件反射，并且在多個第二反射點處從第二反射元件反射。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學單元，其中所述光學單元包括調(diào)節(jié)設(shè)備，其用于獲取所述第二反射元件和所述第一反射元件的相對移動，從而將出口孔定位在所述第二反射點中的選定的一個反射點處。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學單元，其中所述調(diào)節(jié)設(shè)備被配置成獲取所述相對移動，以便將出口孔的位置從第二反射點中的一個階躍到第二反射點中的另外選定的一個。
10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項所述的光學單元，其中包括下述至少一個特征：
所述多個第一反射點分別被布置成與第一反射元件的軸線相距大體相同的徑向距離；
所述多個第二反射點分別被布置成與第二反射元件的軸線相距大體相同的徑向距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求7至10中任一項所述的光學單元，其中包括下述至少一個特征：
所述多個第一反射點中的每一個與多個第一反射點中的相應(yīng)相鄰的一個間隔開大體相同的第一角度；
所述多個第一反射點中的每一個與多個第二反射點中的相應(yīng)相鄰的一個間隔開大體相同的第二角度。
12.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的光學單元，其中包括下述至少一個特征：
所述入口孔被定位在相對于所述第一反射元件的中心軸線的偏離軸線的位置處；
所述出口孔被定位在相對于所述第二反射元件的中心軸線的偏離軸線的位置處。
13.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的光學單元，其中包括下述至少一個特征：
所述第一反射元件具有圓形對稱的反射表面；
所述第二反射元件具有圓形對稱的反射表面。
14.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的光學單元，其中包括下述至少一個特征：
所述第一反射元件包括拋物面反射鏡；
所述第二反射元件包括拋物面反射鏡。
15.一種檢測系統(tǒng)，其包括：
至少一個激光器，其被配置成產(chǎn)生至少一個激光束以便激發(fā)一種或多種不同的化合物；
樣品單元，其用于容納一定體積的樣品氣體；
至少一個引導裝置，其被配置成將至少一個激光束引導到樣品單元；以及
檢測器設(shè)備，其用于檢測從樣品單元輸出的光；
其中所述樣品單元包括：
相對的第一反射元件和第二反射元件；
在所述第一反射元件中的入口孔；和
在所述第二反射元件中的出口孔；
其中所述入口孔和所述出口孔被配置成在操作過程中在經(jīng)由所述出口孔離開樣品單元之前，由第二反射元件反射至少一次以及由第一反射元件反射至少一次。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的檢測系統(tǒng)，其中所述檢測器設(shè)備被布置在所述樣品單元的第一側(cè)，以及所述至少一個激光器被布置在所述樣品單元的第二大體相對側(cè)。
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
