[發(fā)明專利]基于變?nèi)コ瘮?shù)的射流拋光面形誤差控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610547669.1
• 申請(qǐng)日: 2016-07-13
• 公開（公告）號(hào): CN106181741B
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樊煒;張連新;柯瑞;吳祉群;高浪;藍(lán)河;張?jiān)骑w;丁穎;孫鵬飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院機(jī)械制造工藝研究所
• 主分類號(hào): B24B31/116
• 分類號(hào): B24B31/116;B24B51/00;B24C3/32;G05B19/4099
• 代理公司: 中國(guó)工程物理研究院專利中心51210
• 代理人: 翟長(zhǎng)明,韓志英

1.一種基于變?nèi)コ瘮?shù)的射流拋光面形誤差控制方法，依次包括如下步驟：

（1）獲取拋光工藝的去除函數(shù)：給定采斑時(shí)間，將噴嘴與軸線傾斜θ角度、并以角速度繞軸線回轉(zhuǎn)噴嘴，獲取多組不同的工藝參數(shù)下的拋光斑，通過擬合建立去除函數(shù)工藝參數(shù)η與去除函數(shù)形態(tài)之間的映射關(guān)系：

其中，令，為常數(shù)，是以拋光斑中心為原點(diǎn)的坐標(biāo)系下的面形位置坐標(biāo)；

（2）檢測(cè)面形誤差分布：采用干涉儀測(cè)量待加工光學(xué)鏡面的面形誤差分布，將檢測(cè)得到的面形誤差分布記為；

（3）建立拋光工藝的加工過程模型：在所述的光學(xué)鏡面上等距選取個(gè)加工軌跡點(diǎn)，第個(gè)加工軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)記為，設(shè)第個(gè)加工軌跡點(diǎn)的駐留時(shí)間為，按順序形成駐留時(shí)間向量；同時(shí)選取個(gè)加工控制點(diǎn)，第個(gè)加工控制點(diǎn)的坐標(biāo)記為，各加工控制點(diǎn)的期望去除量為，按順序形成期望去除量向量；加工控制點(diǎn)的材料去除量為，所有的按順序組成材料去除向量，加工模型為，其中是的影響矩陣，其第行第列元素為；設(shè)射流拋光的工藝參數(shù)的上限為，下限為，計(jì)算在下的影響矩陣；

（4）求解工藝參數(shù)實(shí)現(xiàn)變?nèi)コ瘮?shù)修形：設(shè)機(jī)床最大速度為，通過內(nèi)點(diǎn)法，求解如下的二次規(guī)劃問題獲得下的駐留時(shí)間：

，subjected to ；

計(jì)算勻速拋光時(shí)各軌跡點(diǎn)間的時(shí)間, 計(jì)算駐留時(shí)間釋放比；記為第個(gè)軌跡點(diǎn)處的工藝參數(shù)，求解方程在區(qū)間的實(shí)根，若方程的根小于，取，若方程的根大于，取；

（5）通過數(shù)控加工控制面形精度：生成包含刀具軌跡點(diǎn)、進(jìn)給速度、各軌跡點(diǎn)對(duì)應(yīng)的工藝參數(shù)的數(shù)控程序，將數(shù)控程序加載到帶工藝參數(shù)控制的數(shù)控系統(tǒng)中執(zhí)行加工，利用干涉儀測(cè)量加工后的面形，如果精度滿足要求，則完成拋光；否則返回至步驟（2）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于變?nèi)コ瘮?shù)的射流拋光面形誤差控制方法，其特征在于：所述的工藝參數(shù)為噴嘴壓強(qiáng)。