[發(fā)明專利]一種描述同步輻射光源光斑形狀的方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610535016.1 | 申請(qǐng)日： | 2016-07-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107589137B | 公開（公告）日： | 2019-11-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 朱才鎮(zhèn);海洋;孫同兵;趙寧;徐堅(jiān) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所;深圳大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G01N23/201 | 分類號(hào)： | G01N23/201 |
| 代理公司： | 北京知元同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 劉元霞;張祖萍 |
| 地址： | 100190 *** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 描述 同步 輻射 光源 光斑 形狀 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種描述同步輻射光源光斑形狀的方法，其特征在于，該方法包括下列步驟：
獲取光斑的步驟：確定同步輻射的散射光源，從而得到待描述的同步輻射光源光斑；
描述光斑形狀的步驟：利用二維高斯函數(shù)來描述同步輻射光源光斑的形狀；
修正光斑形狀的步驟：調(diào)整所述二維高斯函數(shù)中的可調(diào)參數(shù)以改變其所描述的光斑形狀，從而描述出所述待描述的同步輻射光源光斑的形狀；其中，所述二維高斯函數(shù)的形式如式(1)所示：
其中，q12為散射矢量q在子午線方向的分量，q3為散射矢量q在赤道方向的分量；Sx為q12在子午線方向上的方差，Sy為q3在赤道方向上的方差，Sx和Sy為可調(diào)參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述修正光斑形狀的步驟中，通過調(diào)整式(1)中的可調(diào)參數(shù)Sx和Sy，從而描述出所述待描述的同步輻射光源光斑的形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該方法應(yīng)用于同步輻射光源小角X射線散射技術(shù)領(lǐng)域。
4.一種描述同步輻射光源光斑形狀的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)包括如下模塊：
獲取光斑的模塊：確定同步輻射的散射光源，從而得到待描述的同步輻射光源光斑；
描述光斑形狀的模塊：利用二維高斯函數(shù)來描述同步輻射光源光斑的形狀；
修正光斑形狀的模塊：調(diào)整所述二維高斯函數(shù)中的可調(diào)參數(shù)以改變其所描述的光斑形狀，從而描述出所述待描述的同步輻射光源光斑的形狀；其中，所述二維高斯函數(shù)的形式如式(1)所示：
其中，q12為散射矢量q在子午線方向的分量，q3為散射矢量q在赤道方向的分量；Sx為q12在子午線方向上的方差，Sy為q3在赤道方向上的方差，Sx和Sy為可調(diào)參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述修正光斑形狀的模塊通過調(diào)整式(1)中的可調(diào)參數(shù)Sx和Sy，從而描述出所述待描述的同步輻射光源光斑的形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)應(yīng)用于同步輻射光源小角X射線散射技術(shù)領(lǐng)域。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所;深圳大學(xué)，未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所;深圳大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610535016.1/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
