[發明專利]一種利用光刻膠制備三維微電極陣列的方法有效
| 申請號： | 201610534964.3 | 申請日： | 2016-07-07 |
| 公開（公告）號： | CN106054519B | 公開（公告）日： | 2020-08-25 |
| 發明（設計）人： | 李騰躍;吳天準;孫濱;杜學敏 | 申請（專利權）人： | 深圳先進技術研究院 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/26;A61F9/08 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址： | 518055 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 光刻 制備 三維 微電極 陣列 方法 | ||
【說明書】：
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