[發明專利]CMP后清洗液組合物有效
| 申請號： | 201610533445.5 | 申請日： | 2016-07-07 |
| 公開（公告）號： | CN106191887B | 公開（公告）日： | 2017-06-30 |
| 發明（設計）人： | 李錫浩;宋定桓;全成植;趙誠一;韓挪;金炳卓;林娥鉉 | 申請（專利權）人： | LTCAM株式會社 |
| 主分類號： | C23G1/20 | 分類號： | C23G1/20 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司11243 | 代理人： | 鐘晶,金鮮英 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | cmp 清洗 組合 | ||
1.一種化學機械研磨后清洗液組合物，其特征在于，包含：2-氨基-2-甲基-1-丙醇0.01～10wt％、季銨氫氧化物0.1～10wt％、螯合劑0.001～3wt％、哌嗪0.001～5wt％以及使全部組合物總重量為100wt％的余量的超純水。
2.根據權利要求1所述的化學機械研磨后清洗液組合物，其特征在于，所述季銨氫氧化物為選自四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨中的一種以上。
3.根據權利要求1所述的化學機械研磨后清洗液組合物，其特征在于，所述螯合劑為選自乙二胺四乙酸、丁二胺四乙酸、1,2-環己二胺四乙酸、二亞乙基三胺五乙酸、三亞乙基四胺六乙酸、丙二胺四乙酸、二亞乙基三胺五(亞甲基膦酸)、氨三乙酸、檸檬酸、酒石酸、葡糖酸、甘油酸、草酸、苯二甲酸、馬來酸、扁桃酸、丙二酸中的一種以上。
4.一種化學機械研磨后清洗液組合物，其特征在于，包含：2-氨基-2-甲基-1-丙醇0.01～10wt％、四甲基氫氧化銨0.1～10wt％、1,2-環己二胺四乙酸0.001～3wt％、哌嗪0.001～5wt％以及使全部組合物總重量為100wt％的余量的超純水。
5.根據權利要求1或4所述的化學機械研磨后清洗液組合物，其特征在于，所述清洗液組合物的pH為10～14。
6.根據權利要求1或4所述的化學機械研磨后清洗液組合物，其特征在于，所述清洗液組合物在化學機械研磨工序后用于金屬表面清洗，以1：50～1：100的稀釋比使用。
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