[發明專利]一種溶劑-反溶劑交替快加法制備大顆粒圓滑ε-HNIW晶體的方法有效
| 申請號： | 201610519078.3 | 申請日： | 2016-07-04 |
| 公開（公告）號： | CN106188071B | 公開（公告）日： | 2018-08-28 |
| 發明（設計）人： | 焦清介;黃陽飛;郭學永;崔超;任慧 | 申請（專利權）人： | 北京理工大學 |
| 主分類號： | C07D487/22 | 分類號： | C07D487/22 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100081 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 溶劑 交替 加法 制備 顆粒 圓滑 hniw 晶體 方法 | ||
【說明書】：
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