[發明專利]一種基于掩模板的集成電路基板二次曝光方法有效
| 申請號： | 201610516429.5 | 申請日： | 2016-07-01 |
| 公開（公告）號： | CN106154768B | 公開（公告）日： | 2019-04-05 |
| 發明（設計）人： | 沙云峰 | 申請（專利權）人： | 無錫中微掩模電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 翁斌 |
| 地址： | 214135 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 模板 集成 路基 二次 曝光 方法 | ||
【權利要求書】：
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