[發(fā)明專利]流體溫控基因測序反應小室

在審

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• 申請日: 2016-06-29
• 公開（公告）號: CN107541449A
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發(fā)明（設計）人: 盛司潼;祝捷
• 申請（專利權）人: 廣州康昕瑞基因健康科技有限公司
• 主分類號: C12M1/00
• 分類號: C12M1/00;C12M1/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：包括底層、反應層以及溫控層；

所述反應層設置在底層與溫控層之間，且所述反應層與底層之間設置有用于通入試劑進行基因測序反應的反應通道；

所述溫控層貼合在所述的反應層上，溫控層上設置有流體入口和流體出口，所述溫控層與反應層之間設置有溫控通道，所述流體入口和流體出口均與所述的溫控通道相連通，所述溫控通道用于通入流體，對反應通道中的試劑進行溫度的調節(jié)。

2.根據(jù)權利要求1所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述溫控層為一溫控基片，所述反應層包括反應基片，所述反應基片的上表面設置有朝向溫控基片的第一凹槽，所述溫控基片貼合在反應基片上后，所述第一凹槽即形成封閉的溫控通道。

3.根據(jù)權利要求1所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述溫控層為一溫控基片，所述溫控基片的下表面設置有朝向反應層的第一凹槽，所述溫控基片貼合在反應層上后，所述第一凹槽即形成封閉的溫控通道。

4.根據(jù)權利要求3所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述溫控基片由頂層玻片和夾層玻片貼合而成；

所述溫控基片下表面設置的第一凹槽為所述夾層玻片上設置的第三通孔，所述夾層玻片位于頂層玻片和反應層之間，所述第三通孔定義所述的溫控通道。

5.根據(jù)權利要求4所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述流體入口和流體出口設置在頂層玻片上，所述流體入口和流體出口均與所述第三通孔相連通。

6.根據(jù)權利要求4所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述反應層上設置有與反應通道相連通的試劑入口和試劑出口，所述溫控基片上設置有與試劑入口相連通的第一通孔，溫控基片上設置有與試劑出口相連通的第二通孔；

所述第一通孔上連接有試劑進入管道，所述第二通孔上連接有試劑排出管道；

所述流體入口上連接有流體進入管道，所述流體出口上連接有流體排出管道。

7.根據(jù)權利要求6所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述第三通孔呈方形，所述頂層玻片和夾層玻片貼合后，第三通孔在所述頂層玻片上形成一方形區(qū)域，所述流體入口和流體出口位于所述方形區(qū)域的拐角處。

8.根據(jù)權利要求3或4所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述第一凹槽的寬度大于所述反應通道的寬度。

9.根據(jù)權利要求3或4所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述第一凹槽呈方形或呈橢圓形或呈樹葉狀。

10.根據(jù)權利要求4所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述頂層玻片的材質為玻璃，所述夾層玻片的材質為PDMS，所述頂層玻片通過鍵合的方式固定在夾層玻片上。

11.根據(jù)權利要求10所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述反應層由蓋玻片和導液片構成，所述底層為載玻片，所述蓋玻片和載玻片的材質為玻璃，所述導液片的材質為PDMS，所述蓋玻片通過鍵合的方式固定在導液片上，所述導液片通過鍵合的方式固定在載玻片上；

所述反應層的夾層玻片通過鍵合的方式固定在所述蓋玻片上。

12.根據(jù)權利要求1所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述反應層由蓋玻片和導液片構成，所述底層為載玻片，所述導液片位于蓋玻片和載玻片之間，所述導液片上設置有第四通孔；

所述溫控層為一溫控基片，溫控基片貼合在所述的蓋玻片上，且溫控基片朝向蓋玻片的一面上設置有兩個第三凹槽，流體入口與其中一個第三凹槽相連通，流體出口與另一個第三凹槽相連通；

所述蓋玻片、導液片以及載玻片上均設置有與其中一個第三凹槽相連通的第一循環(huán)通孔，所述蓋玻片、導液片以及載玻片上均還設置有與另一個第三凹槽相連通的第二循環(huán)通孔；

所述流體溫控基因測序反應小室還包括流體循環(huán)基片，所述流體循環(huán)基片貼合在所述載玻片的底面上，流體循環(huán)基片朝向載玻片的一面上設置有流體循環(huán)凹槽，所述的第一循環(huán)通孔、第二循環(huán)通孔均與所述的流體循環(huán)凹槽相連通。

13.根據(jù)權利要求12所述的流體溫控基因測序反應小室，其特征在于：所述溫控基片由頂層玻片和夾層玻片貼合而成，所述第三凹槽即為設置在夾層玻片上的第五通孔和第六通孔；

所述流體循環(huán)基片由第一循環(huán)玻片和第二循環(huán)玻片構成，所述第二循環(huán)玻片位于載玻片和第一循環(huán)玻片之間，所述流體循環(huán)凹槽即為設置在所述第二循環(huán)玻片上的第七通孔。