[發(fā)明專利]顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610506488.4 | 申請日: | 2016-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN107564928B | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李冠鋒 | 申請(專利權(quán))人: | 群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
本發(fā)明公開一種的顯示裝置,包括:基板,具有凹陷;發(fā)光二極管,位于凹陷中;以及薄膜晶體管,位于基板的表面上并電連接至發(fā)光二極管。薄膜晶體管與發(fā)光二極管位于基板的同一側(cè)上,或者位于基板的不同側(cè)上。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示裝置,特別是涉及其發(fā)光二極管與薄膜晶體管的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
無機發(fā)光二極管(LED)依電極位置的不同,主要可分作倒裝式或垂直式。前者的陽極接點與陰極接點位于LED發(fā)光層的同一側(cè),而后者的陽極接點與陰極接點位于LED發(fā)光層的相反側(cè)。在基板上形成LED的無機層堆疊后,進行光刻蝕刻與切割等制作工藝,形成多個獨立的LED芯片。然而現(xiàn)有的LED芯片的厚度高達5至10微米。若將LED芯片直接接合至TFT基板上,TFT基板的上表面與LED芯片的上表面之間的距離,可能在后續(xù)制作工藝造成施力不均而使元件破損甚至斷裂。或者,直接接合至TFT基板表面上的LED芯片,在發(fā)光時因為LED跟LED之間沒有阻隔而可能會互相混色而降低影像品質(zhì)。
綜上所述,目前亟需新的結(jié)構(gòu)整合LED與TFT,以改善制作工藝良率,或是可以降低混色的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明一實施例揭露的顯示裝置,包括:基板,具有凹陷;發(fā)光二極管,位于凹陷中;以及薄膜晶體管,位于基板的表面上并電連接至發(fā)光二極管。
附圖說明
圖1A至圖1H是一實施例中,顯示裝置的制作工藝剖視圖;
圖2是一實施例中,顯示裝置的剖視圖;
圖3A至圖3C是一實施例中,顯示裝置的制作工藝剖視圖;
圖4A至圖4B是一實施例中,顯示裝置的制作工藝剖視圖;
圖5A至圖5I是一實施例中,顯示裝置的制作工藝剖視圖;
圖6是一實施例中,顯示裝置的剖視圖;
圖7A至圖7H是一實施例中,顯示裝置的制作工藝剖視圖;
圖8是一實施例中,顯示裝置的剖視圖。
符號說明
11 基板
13a、13c 電極
13b 遮光層
13g、16 柵極
131 共同電極線
14 緩沖層
15 柵極絕緣層
15v、20v 通孔
17 半導(dǎo)體層
18 絕緣層
19d 漏極
19s 源極
20、31、34 保護層
21、27、27a、27b 導(dǎo)電層
22 光致抗蝕劑層
22o、41o 開口
23、37 穿孔
25 凹陷
29f 倒裝式LED
29v 垂直式LED
29o OLED
33 導(dǎo)電層
35 外部電路
39 接合墊
41 絕緣層
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





