[發明專利]曝光機鏡組條紋的改善方法

有效

• 申請號: 201610504092.6
• 申請日: 2016-06-29
• 公開（公告）號: CN105929639B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: 丁磊
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所44265
• 代理人: 林才桂

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種曝光機鏡組條紋的改善方法。

背景技術

在顯示技術領域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經逐步取代CRT顯示器，廣泛的應用于液晶電視、手機、個人數字助理、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

通常液晶顯示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶體管基板(TFT，Thin Film Transistor)、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封膠框(Sealant)組成，其成型工藝一般包括：前段陣列(Array)制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板與CF基板貼合)及后段模組組裝制程(驅動IC與印刷電路板壓合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的運動；中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶；后段模組組裝制程主要是驅動IC壓合與印刷電路板的整合，進而驅動液晶分子轉動，顯示圖像。

在液晶顯示器的Array制程等平板顯示器的制程過程中，經常會用到曝光制程。通常曝光制程的具體過程為，先在涂有光刻膠的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光機對基板進行曝光，具體的，曝光機通過開啟超高壓水銀燈發出UV紫外光線，將掩膜板上的圖像信息轉移到涂有光刻膠的基板表面上，基于掩膜板的圖案，光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分，從而使光刻膠形成所需的圖形。

其中，曝光機具有由多個投影鏡頭拼接而成的投影單元，在所述多個投影鏡頭之間形成有接續部，所述多個投影鏡頭在接續部成像存在偏差，會導致曝光后形成在基板上的圖形的特征線寬(critical dimension，CD)和重合精度(Overlay，OVL)出現差異，從而在曝光后的基板形成鏡組條紋(lens mura)，嚴重影響面板顯示效果。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光機鏡組條紋的改善方法，能夠量測并補正曝光機投影鏡頭的接續部偏差值，改善接續部的特征線寬和重合精度，消除鏡組條紋，提升顯示質量。

為實現上述目的，本發明提供了一種曝光機鏡組條紋的改善方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一曝光機，所述曝光機包括至少兩個依次排列的投影鏡頭；

步驟2、提供一測試光罩，所述測試光罩上設有至少一個測量標記圖案；

步驟3、選定所述曝光機中的相鄰的兩個投影鏡頭；

步驟4、提供一基板，利用該兩個投影鏡頭和所述測試光罩對所述基板進行第一次曝光，在所述基板上形成第一層測量標記；

步驟5、調整選定的兩個投影鏡頭之間的相對距離，使得用該兩個投影鏡頭對基板進行曝光時投影到基板上的圖像相對于第一次曝光時投影到基板上的圖像在x軸方向和y軸方向上的理論偏差量分別為m微米和n微米，其中m和n均為正數；

步驟6、利用調整后的兩投影鏡頭和測試光罩，對基板進行第二次曝光，在所述基板上形成第二層測量標記；

步驟7、測量第一層測量標記和第二層測量標記在x軸方向和y軸方向上的實際偏差量；

步驟8、計算得到該選定的兩投影鏡頭的接續部偏差量，所述接續部在x軸方向上的偏差量等于第一層測量標記和第二層測量標記在x軸方向上的實際偏差量與m微米之間的差值，接續部在y軸方向上的偏差量等于第一層測量標記和第二層測量標記在y軸方向上的實際偏差量與n微米之間的差值；

步驟9、重復步驟3至步驟8，直至得到所有相鄰的投影鏡頭的接續部偏差量；

步驟10、將得到的各個相鄰的投影鏡頭的接續部偏差量輸入曝光機，以補正各個相鄰的投影鏡頭的接續部偏差量，改善曝光機鏡組條紋。

所述測量標記圖案為十字形。

所述十字形的測量標記圖案的橫條與豎條的寬度均為15微米，長度均為300微米。

所述投影鏡頭的寬度為105微米。

所述步驟5中m等于30。

所述步驟5中n等于30。

所述步驟7中通過顯微鏡測量第一層測量標記和第二層測量標記之間的實際偏差量。

所述步驟1中投影鏡頭的數量為7個。

所述步驟2中測量標記圖案的數量為5個。