[發(fā)明專利]一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置及上膠方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610502217.1
• 申請日: 2016-06-30
• 公開（公告）號: CN106334649B
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王世杰;查偉強;謝炳乃;江帥;梅明
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州星華反光材料股份有限公司
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/10
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司33109
• 代理人: 王江成,胡寅旭

1.一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，包括上壓輥（1）、凹版上膠輥（2）、刮膠刀及用于儲存并提供膠水的供膠機構(gòu)，所述上壓輥與凹版上膠輥上下設(shè)置且上壓輥與凹版上膠輥之間設(shè)置間隙，該間隙形成用于通過植珠膜（3）的傳輸通道（4），植珠膜分別與上壓輥、凹版上膠輥輥面接觸，所述刮膠刀位于凹版上膠輥一側(cè)，刮膠刀刀口與凹版上膠輥表面接觸，所述上膠輥表面設(shè)有印刷圖案（11），所述印刷圖案由若干個均勻分布且各向同性的用于容納印刷膠水的上膠凹槽（5）組成，所述的凹版上膠輥上的上膠凹槽是通過腐蝕制作而成，上膠凹槽的腐蝕深度均勻一致，各上膠凹槽大小規(guī)格均勻一致，所述凹版上膠輥底部置于供膠機構(gòu)內(nèi)并與供膠機構(gòu)內(nèi)的膠水接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述上膠凹槽分布密度為50~650個/cm²。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述上膠凹槽的深度為0.06~0.45mm。

4.根根利要求1所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述上膠凹槽為三角形凹槽、圓形凹槽、長方形凹槽、正方形凹槽、菱形凹槽或梯形凹槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述刮膠刀包括用于切斷植珠膜與上膠凹槽之間膠水拉絲的第一刮膠刀（6）以及用于刮除上膠凹槽上膠后溢出膠水的第二刮膠刀（7），所述第一刮膠刀設(shè)于植珠膜與上膠凹槽移膠后的脫離處，所述第二刮膠刀設(shè)于上膠凹槽后與供膠機構(gòu)的脫離處，所述第一刮膠刀的刀口、第二刮膠刀的刀口均與凹版上膠輥輥面接觸。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述第一刮膠刀與凹版上膠輥轉(zhuǎn)動方向逆向設(shè)置，所述第二刮膠刀與凹版上膠輥轉(zhuǎn)動方向同向設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述第一刮膠刀與凹版上膠輥接觸面之間銳角夾角為10~30°，所述第二刮膠刀與凹版上膠輥接觸面之間銳角夾角為10~30°。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠裝置，其特征在于，所述供膠機構(gòu)包括膠罐（8）、膠槽（9）及膠管（10），所述膠槽固定于凹版上膠輥下方，所述膠罐固定于膠槽上方，所述膠管固定于膠槽底部，所述膠罐與膠槽通過膠管相連通。

9.一種花式反光面料大花紋圖案的凹版上膠方法，其特征在于，具體方法為：植珠膜經(jīng)過導輥輸送到上壓輥與凹版上膠輥之間的傳輸通道，凹版上膠輥位于底部并與供膠機構(gòu)內(nèi)的膠水接觸的上膠凹槽填滿膠水后，在轉(zhuǎn)動過程中利用第二刮膠刀將凹版上膠輥輥面上多余的膠水鏟刮除并落入膠槽中，僅使上膠凹槽內(nèi)部有充滿膠水，而且通過腐蝕制作凹版上膠輥時，由于各上膠凹槽大小規(guī)格均勻一致，上膠凹槽的腐蝕深度均勻一致，上膠凹槽內(nèi)部的上膠量均勻一致，使得膠層厚度均勻一致，接著凹版上膠輥轉(zhuǎn)動帶動填滿膠水的上膠凹槽與通過傳輸通道的植珠膜進行接觸，上膠凹槽內(nèi)部的膠水則被轉(zhuǎn)移到植珠膜上實現(xiàn)涂膠復合，在凹版上膠輥轉(zhuǎn)動過程中，第一刮膠刀切斷膠水拉絲，凹版上膠輥上的膠水則清晰完整地轉(zhuǎn)印到植珠膜形成圖案，即完成整個上膠過程。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的凹版上膠方法，其特征在于，所述第一掛刮膠刀與凹版上膠輥輥面之間的壓力為10±2kg/m²，所述第二掛刮膠刀與凹版上膠輥輥面之間的壓力為15±2kg/m²。