[發(fā)明專利]光場輔助Ag摻雜ZnO強(qiáng)發(fā)射性能帶有納米葉的薄膜材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610493441.9 | 申請日: | 2016-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN106086803A | 公開(公告)日: | 2016-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚成寶;楊守斌;勵強(qiáng)華;張可心;文杏 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱師范大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02;H01J1/304 |
| 代理公司: | 哈爾濱龍科專利代理有限公司 23206 | 代理人: | 高媛 |
| 地址: | 150000 黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 輔助 ag 摻雜 zno 發(fā)射 性能 帶有 納米 薄膜 材料 及其 制備 方法 | ||
【說明書】:
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C23 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
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