[發(fā)明專利]一種提高CZTS/CdS異質(zhì)結(jié)整流比的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610491387.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105914244B | 公開(公告)日: | 2017-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程樹英;董麗美;賴云鋒;龍博;俞金玲;張紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福州大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L31/0296 | 分類號(hào): | H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/072;H01L31/18;H01L21/02 |
| 代理公司: | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司35100 | 代理人: | 蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提高 czts cds 異質(zhì)結(jié) 整流 方法 | ||
1.一種提高CZTS/CdS異質(zhì)結(jié)整流比的方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)選擇柔性鉬箔作為底電極,在濃硫酸和甲醇體積比1:7的混合溶液中進(jìn)行清洗,最后用去離子水沖干凈并用氮?dú)獯蹈桑?/p>
(2)利用溶膠凝膠法在鉬箔上制備金屬預(yù)制層薄膜,其后進(jìn)行硫化從而得到CZTS薄膜;
(3)將(2)的CZTS薄膜進(jìn)行等離子體處理,包括以下步驟:
A、將所述CZTS薄膜放置于腔室中,并抽真空至0.1Pa以下;
B、 在所述真空腔室中通入氣流為48 sccm的Ar氣,并保持腔室氣壓為100Pa,然后起輝;
C、調(diào)整節(jié)流閥使所述真空腔室保持在120Pa, 施加80~120W射頻功率于腔室內(nèi)的氣體,使其等離子化,并保持等離子體對(duì)CZTS薄膜的作用時(shí)間為120s;
(4)采用化學(xué)水浴法在(3)所得的等離子體處理后的CZTS薄膜表面沉積CdS薄膜;
(5)采用蒸發(fā)法在(4)制得的樣品表面鍍一層鋁電極。
2.一種如權(quán)利要求1所述的方法提高CZTS/CdS異質(zhì)結(jié)整流比。
3.一種如權(quán)利要求1所述的方法提高CZTS/CdS異質(zhì)結(jié)整流比的應(yīng)用,其特征在于:該方法在提高銅鋅錫硫薄膜太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率中的應(yīng)用。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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