[發明專利]干涉成像光譜儀及干涉儀有效
| 申請號: | 201610481840.3 | 申請日: | 2016-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN106052874B | 公開(公告)日: | 2017-10-31 |
| 發明(設計)人: | 白清蘭;李立波;馮玉濤;鄒純博;孫劍;劉歡;李蕓;閆鵬;胡炳墚 | 申請(專利權)人: | 中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G01J3/45 | 分類號: | G01J3/45;G01B9/02 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司61211 | 代理人: | 蘇蓓 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 干涉 成像 光譜儀 干涉儀 | ||
1.干涉成像光譜儀,其特征在于:包括前置成像物鏡、干涉儀、成像耦合鏡和光電探測器;
所述干涉儀包括兩塊相同的等腰梯形棱鏡,兩塊等腰梯形的下底面膠合,相膠合的面為分束面;兩塊等腰梯形的上底面為反射面;兩塊等腰梯形棱鏡的4個腰面中,其中相鄰的兩個腰面為干涉儀的兩個入射端,另兩個腰面為干涉儀的兩個出射端;
所述前置成像物鏡收集來自目標景物的能量并成像于前置成像物鏡的焦面位置;所述干涉儀位于焦面位置、且一個入射端朝向前置成像物鏡,目標景物的像經干涉儀后產生帶有干涉條紋的目標圖像;所述成像耦合鏡位于干涉儀的出射光路上、并將帶有干涉條紋的目標圖像成像于所述光電探測器上。
2.根據權利要求1所述的干涉成像光譜儀,其特征在于:所述等腰梯形棱鏡的底角是45°。
3.根據權利要求2所述的干涉成像光譜儀,其特征在于:所述等腰梯形棱鏡的腰長為a,下底長為b,a和b滿足
4.根據權利要求1或2或3所述的干涉成像光譜儀,其特征在于:所述等腰梯形棱鏡上底與下底之間存在角度為α的楔角,楔角的旋轉點位于上底的中心。
5.根據權利要求4所述的干涉成像光譜儀,其特征在于:
所述干涉儀的光程差Δ=4nαy;
其中,n為干涉儀棱鏡材料的折射率;
y為目標景物在前置成像物鏡處的成像的像高。
6.根據權利要求5所述的干涉成像光譜儀,其特征在于:帶有干涉條紋的目標圖像在光電探測器上成像像面光譜維的像高y′滿足如下公式:
y′=βy;
其中,B為成像耦合鏡的垂軸放大率。
7.一種干涉儀,其特征在于:
所述干涉儀包括兩塊相同的等腰梯形棱鏡,兩塊等腰梯形的下底面膠合,相膠合的面為分束面;兩塊等腰梯形的上底面為反射面;兩塊等腰梯形棱鏡的4個腰面中,其中相鄰的兩個腰面為干涉儀的兩個入射端,另兩個腰面為干涉儀的兩個出射端;
所述等腰梯形棱鏡的底角是45°;
所述等腰梯形棱鏡的腰長為a,下底長為b,a和b滿足
所述等腰梯形棱鏡上底與下底之間存在角度為α的楔角,楔角的旋轉點位于上底的中心。
8.根據權利要求7所述的干涉儀,其特征在于:
所述干涉儀的光程差Δ=4nαy;
其中,n為干涉儀棱鏡材料的折射率;
α為等腰梯形棱鏡上底與下底之間存在的楔角,楔角的旋轉點位于上底的中心;
y為入射至干涉儀的圖像的像高。
9.根據權利要求8所述的干涉儀,其特征在于:所述干涉儀的一個入射端設置為定標端口,一個出射端設置成像光路。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院西安光學精密機械研究所,未經中國科學院西安光學精密機械研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610481840.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





