[發(fā)明專利]一種基于調(diào)控納米顆粒空間分布的光子晶體制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610472711.8 | 申請(qǐng)日: | 2016-06-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106082119B | 公開(公告)日: | 2018-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張家雨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B82B3/00 | 分類號(hào): | B82B3/00;B82Y20/00;G02B1/00 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32249 | 代理人: | 陳國(guó)強(qiáng) |
| 地址: | 211189 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 調(diào)控 納米 顆粒 空間 分布 光子 晶體 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光子晶體領(lǐng)域,提出利用周期光場(chǎng)來調(diào)控納米顆粒的空間分布,從而制備出光學(xué)折射率空間周期分布的光學(xué)材料。
背景技術(shù)
光場(chǎng)可在其輻照的物質(zhì)上產(chǎn)生作用力。在原子物理領(lǐng)域,人們利用這種光作用力來冷卻原子,形成原子“光陷阱”,光陷阱是通過一特定窄譜帶的光散射來降低原子的速度,但納米顆粒缺乏這種窄帶散射特性;另一方面,人們廣泛利用“光鑷”技術(shù)來操縱細(xì)胞等微米尺度的顆粒。光鑷中的光力來源于電極化效應(yīng),其大小與顆粒的體積有關(guān)。顆粒尺寸越小,作用在其上的光力就越小。光鑷在納米顆粒上所產(chǎn)生的光力通常不足以克服熱漲落所導(dǎo)致的布朗運(yùn)動(dòng)。因此利用光鑷來對(duì)單一納米顆粒進(jìn)行操縱是一個(gè)不小的挑戰(zhàn)。近年來,人們?cè)诠忤嚰夹g(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展了多種新方法來實(shí)現(xiàn)對(duì)納米顆粒的操縱。相比于球狀納米顆粒,幾何形狀高度各向異性的納米線或者碳納米管具有顯著的電極化率,因此可使用遠(yuǎn)場(chǎng)光鑷來進(jìn)行俘獲和旋轉(zhuǎn),另外等離激元共振也使得金屬顆粒具有很大的電極化率。另一方面,利用表面等離激元的局域場(chǎng)增強(qiáng)效應(yīng),通過微納結(jié)構(gòu)的金屬基底來獲得近場(chǎng)光鑷,從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)納米顆粒的俘獲。利用光鑷來操縱單一納米顆粒進(jìn)行有序排列,可形成二維光子晶體結(jié)構(gòu),也可以將多光束干涉與光鑷結(jié)合在一起,形成規(guī)則排列的“顆粒勢(shì)阱”,來同時(shí)對(duì)多個(gè)顆粒進(jìn)行操縱,這樣也可獲得顆粒的有序排列。需要說明的是,這些工作都是通過先“牢固俘獲”單一顆粒,從而實(shí)現(xiàn)多個(gè)顆粒的有序排列。
經(jīng)過多年的理論和應(yīng)用研究,光子晶體在多個(gè)領(lǐng)域呈現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。光子晶體的制備是其開展應(yīng)用的基礎(chǔ),目前的制備方法包括自組裝、平面刻蝕和光學(xué)全息等。本發(fā)明所提出的光子晶體制備方法具有工藝簡(jiǎn)單、可重復(fù)性好、與當(dāng)前光集成工藝兼容性好等特點(diǎn)。
目前常規(guī)的光子晶體(例如利用膠體自組裝或者利用刻蝕工藝制備的光子晶體)是由兩種材料交替排列而成,因此折射率在兩個(gè)數(shù)值之間周期性跳躍變化。由于膠體微球有一定的尺寸分布,因此微球自組裝所形成的膠體光子晶體存在很多的缺陷。另一方面,對(duì)塊體光學(xué)材料進(jìn)行由外向內(nèi)的刻蝕也能制備出光子晶體,但該方法很難獲得厚尺寸的光子晶體。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基于調(diào)控納米顆粒空間分布的光子晶體制備方法,利用多光束干涉所形成的周期光場(chǎng)來調(diào)控納米顆粒的空間分布,使得納米顆粒的密度呈現(xiàn)周期性分布。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
一種基于調(diào)控納米顆粒空間分布的光子晶體制備方法,在光子晶體制備中,利用多光束干涉所形成的周期光場(chǎng)來調(diào)控納米顆粒的空間分布,使得納米顆粒的密度呈現(xiàn)周期性分布,從而制備出光子晶體。
該方法具體包括以下步驟:
1)利用膠體化學(xué)法制備納米顆粒,并利用表面配體對(duì)納米顆粒進(jìn)行表面修飾,使其轉(zhuǎn)化成水溶性納米顆粒;將齊聚物、單體、和2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮配成具有UV光固化性質(zhì)的液態(tài)介質(zhì),并將其與水溶性納米顆粒混合,得到納米顆粒溶液;
2)利用旋涂制膜法將上述步驟得到的納米顆粒溶液在基板上成膜,得到液態(tài)薄膜;
3)將擴(kuò)束的532nm激光束分成三束等光強(qiáng)的、相對(duì)空間角相同的光束,使其在上述液態(tài)薄膜表面上干涉,來形成二維周期光場(chǎng);在該調(diào)控光場(chǎng)作用于液態(tài)薄膜1分鐘后,液態(tài)薄膜內(nèi)形成納米顆粒的空間周期分布;然后將280nm UV固化光同時(shí)輻照在液態(tài)薄膜上,將該液態(tài)薄膜轉(zhuǎn)化為固態(tài)薄膜,從而形成一層光子晶體薄膜,該層光子晶體薄膜中的圖案為操縱光干涉點(diǎn)陣圖案;
4)對(duì)基板相對(duì)于上述步驟得到的光子晶體薄膜中的操縱光干涉點(diǎn)陣圖案進(jìn)行平移和旋轉(zhuǎn)操作,使操縱光干涉點(diǎn)陣分布在上一層光子晶體薄膜的點(diǎn)陣間隙;
5)重復(fù)上述步驟2)和步驟3),來制備另一層光子晶體薄膜;
6)循環(huán)操作重復(fù)上述步驟4)、步驟2)和步驟3),來制備三維光子晶體。
步驟3)中,通過改變?nèi)缮婀獾南鄬?duì)空間角,來改變操縱光二維周期點(diǎn)陣圖案。
步驟1)中,所述納米顆粒為半導(dǎo)體CdSe納米顆粒;表面配體為3-巰基丙酸;齊聚物為聚氨酯丙烯酸酯;單體為三丙二醇二丙烯酸酯。
步驟1)中,聚氨酯丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮按體積比70:25:5比例。
有益效果:本發(fā)明提供的方法,利用多光束干涉所形成的周期光場(chǎng)來調(diào)控納米顆粒的空間分布,使得納米顆粒的密度呈現(xiàn)周期性分布。在納米顆粒密度越大的區(qū)域,折射率就越大。納米顆粒密度的周期分布將意味著光學(xué)折射率在該固態(tài)薄膜中也呈現(xiàn)出周期性分布,從而制備出光子晶體。
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