[發明專利]氣體分配器及基板處理裝置

在審

• 申請號: 201610467573.4
• 申請日: 2016-06-24
• 公開（公告）號: CN107435139A
• 公開（公告）日: 2017-12-05
• 發明（設計）人: 徐映水;閔昔基;李埈爀;韓泳琪;卞亨錫;李奎尚
• 申請（專利權）人: 燦美工程股份有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01J37/32
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司11205
• 代理人: 楊貝貝,臧建明

1.一種氣體分配器，其特征在于，包含：

分配部，具備彼此結合的多個板，在所述分配部內部形成收容氣體及所述氣體的等離子體中的至少一種的空間；以及

噴射孔，貫通所述分配部的下部，且所述噴射孔的出口部的面積小于所述噴射孔的入口部的面積。

2.根據權利要求1所述的氣體分配器，其特征在于：

在將所述噴射孔的出口部的寬度設為1時，所述噴射孔的入口部的寬度為1.1至3。

3.根據權利要求1所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔的內周面形成為錐形。

4.根據權利要求3所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔在內周面包含沿上下方向排列而彼此連接的多個傾斜面，

所述多個傾斜面中的至少任一傾斜面的傾斜度與至少另一傾斜面的傾斜度不同。

5.根據權利要求4所述的氣體分配器，其特征在于：

所述多個傾斜面中，位于相對上側的傾斜面的傾斜度大于位于相對下側的傾斜面的傾斜度。

6.根據權利要求4所述的氣體分配器，其特征在于：

所述多個傾斜面中，位于相對上側的傾斜面的傾斜度小于位于相對下側的傾斜面的傾斜度。

7.根據權利要求1所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔的內周面形成為文氏形。

8.根據權利要求7所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔的噴嘴喉部形成于所述噴射孔的出口部。

9.根據權利要求7所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔的噴嘴喉部從所述噴射孔的出口部向上側隔開而形成。

10.根據權利要求7所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔的內周面越從上側朝向下側，則傾斜度越增加。

11.根據權利要求7所述的氣體分配器，其特征在于：

所述噴射孔的內周面越從上側朝向下側，則傾斜度越減小。

12.一種基板處理裝置，其特征在于，包含：

腔室，在內部具有反應空間；

支撐部，形成于所述腔室的內側的下部，以支撐基板；

分配部，以面對所述支撐部的方式配置到所述腔室的內側的上部，在所述分配部內部形成收容氣體及氣體的等離子體的空間；以及

噴射孔，貫通所述分配部的下部，且所述噴射孔的出口部的面積小于所述噴射孔的入口部的面積。

13.根據權利要求12所述的基板處理裝置，包含：

供給部，以將用以對所述基板進行處理的多個氣體供給到所述分配部的方式形成；以及

等離子體產生器，在所述供給部及所述分配部中的至少一個的內部形成多個氣體中的至少一種氣體的等離子體。

14.根據權利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述分配部具備彼此結合的多個板，以便在所述分配部的內部形成空間，

貫通所述多個板中的形成所述分配部的下部面的板而形成所述噴射孔，

所述供給部貫通所述多個板中的形成所述分配部的上部面的板而與所述分配部的內部空間連通。

15.根據權利要求12所述的基板處理裝置，其特征在于：

在將所述噴射孔的出口部的寬度設為1時，所述噴射孔的入口部的寬度為1.1至3。

16.根據權利要求12所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述噴射孔的內周面形成為錐形或文氏形。

17.根據權利要求16所述的基板處理裝置，其特征在于：

在所述噴射孔的內周面形成為錐形時，

所述噴射孔的內周面包含沿上下方向排列而彼此連接的多個傾斜面，

所述多個傾斜面中的至少任一傾斜面的傾斜度與至少另一傾斜面的傾斜度不同。

18.根據權利要求17所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述多個傾斜面中，位于相對上側的傾斜面的傾斜度大于位于相對下側的傾斜面的傾斜度，或位于相對上側的傾斜面的傾斜度小于位于相對下側的傾斜面的傾斜度。