[發(fā)明專利]一種多晶硅還原方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610465438.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-06-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106115709B | 公開(公告)日: | 2018-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃雪;李巖;張建新;張海峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京德邦金屬裝備工程股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C01B33/021 | 分類號(hào): | C01B33/021 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32249 | 代理人: | 陳建和 |
| 地址: | 211100 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多晶 還原 方法 | ||
1.一種多晶硅還原的方法,其特征是采用以下多晶硅還原爐;還原爐包括底盤和爐體,所述爐體為底盤之上部,爐體為圓柱狀加半球頂?shù)姆磻?yīng)腔室;底盤為圓盤狀,原料氣進(jìn)口和尾氣出口均布在底盤上,底盤上均布30-50對(duì)電極,所述一半電極在底盤上均勻豎直安裝,另一半電極為吊裝電極,與底盤上豎直安裝電極交錯(cuò)分布,吊裝電極的底端距底盤3-10cm;吊裝電極的上端位置與圓柱狀與半球頂交界處平齊,原料氣進(jìn)口通過高為3-10cm的進(jìn)氣管安裝在底盤上;原料氣進(jìn)口和尾氣出口均布在底盤的不同半徑的圓周上,在一個(gè)半徑的圓周上布置原料氣進(jìn)口時(shí),在相鄰的半徑的圓周上布置尾氣出口;在吊裝電極的上端平面位置設(shè)有溫度傳感器,控制原料氣的流量使得傳感器的溫度達(dá)到910-935℃;使得傳感器的溫度達(dá)到910℃-925℃;
溫度低于910℃時(shí)增大原料氣流量,溫度在升高接近或超過925℃時(shí)減少原料混合氣的流量。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京德邦金屬裝備工程股份有限公司,未經(jīng)南京德邦金屬裝備工程股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610465438.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





