[發(fā)明專利]一種電暈法制備低方阻石墨烯薄膜的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610463375.0 | 申請日： | 2016-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN106166864B | 公開（公告）日： | 2018-07-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王小蓓;王煒;譚化兵 | 申請（專利權(quán)）人： | 無錫格菲電子薄膜科技有限公司 |
| 主分類號： | B32B9/00 | 分類號： | B32B9/00;B32B27/06;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;B32B37/00;B32B38/18 |
| 代理公司： | 北京煦潤律師事務所 11522 | 代理人： | 艾娟 |
| 地址： | 214174 江蘇省無錫市無錫惠山*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 石墨烯 目標基 膠膜 方阻 石墨烯薄膜 金屬襯 單層石墨烯 電暈處理 電暈 去除 貼合 預處理 薄膜 生長 | ||
【說明書】：
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