[發(fā)明專利]等離子體處理系統(tǒng)中的混合模式脈沖蝕刻有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610451176.8 | 申請日： | 2012-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN105895490B | 公開（公告）日： | 2018-10-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 克倫·雅克布卡納里克 | 申請（專利權(quán)）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海勝康律師事務所 31263 | 代理人： | 樊英如;張靜 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 處理 系統(tǒng) 中的 混合 模式 脈沖 蝕刻 | ||
【說明書】：
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