[發(fā)明專利]一種高強(qiáng)度鋼的處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610445921.8 | 申請日： | 2016-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN105908079B | 公開（公告）日： | 2018-06-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 蔣光銳;滕華湘;劉廣會;劉李斌;胡燕慧;李翔宇;王海全;李研;李學(xué)濤 | 申請（專利權(quán)）人： | 首鋼集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號： | C23C2/02 | 分類號： | C23C2/02;C22C38/02;C22C38/04;C22C38/60;C21D6/00;C23C2/06 |
| 代理公司： | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 11302 | 代理人： | 馬苗苗 |
| 地址： | 100041 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 高強(qiáng)度鋼 熱浸鍍鋅 加熱 非氧化性氣氛 重量百分比 強(qiáng)度降低 浸潤性 鍍層 露點(diǎn) | ||
【說明書】：
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于首鋼集團(tuán)有限公司，未經(jīng)首鋼集團(tuán)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610445921.8/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理，例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理，例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
- 高純度·超微粉SiO<SUB>x</SUB>粉及其制造方法
- 球狀碳材料的制造方法
- 易氧化性或易吸濕性物質(zhì)的容器以及易氧化性或易吸濕性物質(zhì)的加熱和加壓處理方法
- 高強(qiáng)度軟磁性復(fù)合壓實(shí)燒成材及其制造方法
- 硅晶圓的熱處理方法
- 復(fù)合氫氧化物及制法、正極活性物質(zhì)及制法、二次電池
- 含過渡金屬的復(fù)合氫氧化物及其制造方法、以及非水電解質(zhì)二次電池用正極活性物質(zhì)的制造方法
- 金屬復(fù)合氫氧化物及其制造方法、鋰離子二次電池用正極活性物質(zhì)及其制造方法及使用其的鋰離子二次電池
- 蔭罩板及其制造方法和裝有這種蔭罩板的彩色顯象管
- 蔭罩板及其制造方法
