[發明專利]圖像插值方法和圖像插值系統

在審

• 申請號: 201610440640.3
• 申請日: 2016-06-17
• 公開（公告）號: CN107516293A
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 劉家瑛;高智涵;楊文瀚;李馬丁;郭宗明
• 申請（專利權）人: 北京大學;北大方正集團有限公司;北京北大方正電子有限公司
• 主分類號: G06T3/40
• 分類號: G06T3/40;G06T5/50
• 代理公司: 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙)11343
• 代理人: 尚志峰,汪海屏

1.一種圖像插值方法，其特征在于，包括：

將待處理的圖像進行初始化插值處理，以生成上插后的目標圖像；

根據目標自回歸插值函數對所述目標圖像的插值像素點進行插值處理，包括：

確定所述目標圖像中以一個所述插值像素點為中心的圖像塊，對所述圖像塊中的每個插值像素點創建多組指定方向的自回歸模型；

對所述圖像塊進行相似性度量，以根據所述相似性度量的結果確定生成目標自回歸函數；

根據所述目標自回歸函數確定所述圖像塊的插值像素點的灰度值。

2.根據權利要求1所述的圖像插值方法，其特征在于，所述自回歸模型包括原始自回歸模型和新增自回歸模型，對所述圖像塊進行相似性度量，以根據所述相似性度量的結果確定生成目標自回歸函數，具體包括以下步驟：

對所述圖像塊中的所有所述原始自回歸模型求和值，根據和值最小的原始自回歸模型創建第一目標函數，所述原始自回歸模型包括水平方向和垂直方向的第一組自回歸模型，所述原始自回歸模型還包括對角線方向的第二組自回歸模型，

所述第一目標函數為

其中，所述α表征所述第一組自回歸模型的預設比重，所述β表征所述第二組自回歸模型的預設比重，所述表征所述圖像塊中所有像素點組成的列向量，所述表征所有所述原始自回歸模型的中心點組成的列向量，所述A表征所述第一組自回歸模型的權重矩陣，所述B表征所述第二組自回歸模型的權重矩陣。

3.根據權利要求2所述的圖像插值方法，其特征在于，對所述圖像塊進行相似性度量，以根據所述相似性度量的結果確定生成目標自回歸函數，具體包括以下步驟：

確定所述圖像塊相鄰的參考圖像塊與所述圖像塊的均方差；

確定均方差最小的一個參考圖像塊，將所述參考圖像塊確定為與所述圖像塊最相似的至少一個圖像塊，根據所述最相似的至少一個圖像塊和所述圖像塊創建新增自回歸模型；

根據所述新增自回歸模型對所述第一目標函數進行修正，生成所述第二目標函數為

其中，所述C表征所述新增自回歸模型的權重矩陣，所述γ表征所述新增自回歸模型的預設比重。

4.根據權利要求3所述的圖像插值方法，其特征在于，對所述圖像塊進行相似性度量，以根據所述相似性度量的結果確定生成目標自回歸函數，具體包括以下步驟：

將圖像塊下采至所述待處理的圖像的相同分辨率的尺寸，以生成目標圖像塊；

確定所述待處理的圖像中與所述目標圖像塊對應的參考圖像塊，并確定所述目標圖像塊與所述參考圖像塊的差值，以根據所述差值對所述第二目標函數進行修正，生成第三目標函數為：

f3=miny,a,b,c{α||y→c-Ay→||2+β||y→c-By→||2+γ||y→c-Cy→||2+λ||x→-Dy→||2},]]>

其中，所述D表征所述差值的權重矩陣，所述λ表征預設參數，所述預設參數的數值范圍為0～1。