[發(fā)明專利]去除鍺單晶片酸化學(xué)腐蝕后表面藍(lán)色藥印的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610437697.8 | 申請(qǐng)日： | 2016-06-20 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105937052B | 公開（公告）日： | 2018-06-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 何杰;肖祥江;李蘇濱;惠峰;李雪峰;柳廷龍;李武芳;周一;楊海超;候振海;囤國(guó)超;田東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 云南中科鑫圓晶體材料有限公司;昆明云鍺高新技術(shù)有限公司;云南鑫耀半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C30B33/10 | 分類號(hào)： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 昆明祥和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 53114 | 代理人： | 和琳 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市高新*** | 國(guó)省代碼： | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鍺單晶片 后表面 酸化學(xué) 腐蝕 去除 甩干 配制 混合水溶液 過氧化氫 氫氧化鈉 生產(chǎn)效率 強(qiáng)光燈 放入 清洗 節(jié)約 檢驗(yàn) | ||
【權(quán)利要求書】：
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