[發明專利]一種柔性發光器件的結構及其制備方法

有效

• 申請號: 201610428111.1
• 申請日: 2016-06-16
• 公開（公告）號: CN105957973B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 秦校軍;趙志國;王一丹;鄔俊波
• 申請（專利權）人: 中國華能集團公司;中國華能集團清潔能源技術研究院有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所61215
• 代理人: 段俊濤

1.一種柔性發光器件的結構的制備方法，該結構包括柔性PET/ITO透明電極基底即第一電極（102），與第一電極（102）相隔開的金屬對電極層即第二電極（110），設置在第一電極（102）和第一電極（102）間的至少一層鈣鈦礦活性層（106），不包括或包括分別設置在第一電極（102）和鈣鈦礦活性層（106）間以及第二電極（110）和鈣鈦礦活性層（106）間的電子、空穴傳輸層；

其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：

步驟1：制備柔性PET/ITO透明電極基底即第一電極（102）：采用沉積在透明的PET樹脂薄膜上的ITO透明電極為發光器件的基底，面積不限；分別使用去離子水、丙酮、異丙醇超聲處理15分鐘，然后使用紫外光清洗機清潔10分鐘，氮氣流吹干備用；

步驟2：制備空穴傳輸層：利用刮刀涂布的方法制備得到的空穴傳輸層，使用的漿料為商品化PEDOT：PSS水溶液，其中PEDOT：PSS的型號為AI 4083，使用異丙醇按照水溶液：異丙醇為1：3配比稀釋，刮刀涂布速度為10-20 mm/s，涂布溫度為45-70℃，刮刀與基底間距為50μm；涂布后經氮氣中80-100℃退火10-20分鐘，得到的空穴傳輸層厚度為50-100nm；

步驟3：制備鈣鈦礦活性層（106）：采用結構為（RNH₃）AX_nY_3-n（R=烴基；A=Pb，Sn；X，Y=Cl，Br，I；n為0-3的實數），溶劑為DMF，配成質量分數為20-35%的漿料，刮刀涂布速度為10-20 mm/s，涂布溫度為室溫；刮刀與基底間距為50μm；涂布后經氮氣中120-140℃退火20-40分鐘，得到的鈣鈦礦活性層（106）的厚度為300-500nm；

步驟4：制備電子傳輸層：采用材料為PC₇₁BM，漿料為15g/L的氯仿分散液；刮刀涂布速度為10-20 mm/s，涂布溫度為室溫；刮刀與基底間距為100μm；涂布后于氮氣中自然干燥20分鐘；得到電子傳輸層，其厚度為100-300nm；

步驟5：制備金屬對電極層即第二電極（110）：材料為商品化銀納米線溶膠，溶劑為異丙醇，濃度50g/L，銀納米線直徑為75-150nm，長度50-100μm；刮刀涂布速度為10-20 mm/s，涂布溫度為室溫；刮刀與基底間距為50μm；涂布后經氮氣中70-100℃退火10-20分鐘，厚度約為40-100nm；

當不包括分別設置在第一電極（102）和鈣鈦礦活性層（106）間以及第二電極（110）和鈣鈦礦活性層（106）間的電子、空穴傳輸層時，上述步驟2和步驟4無。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述鈣鈦礦活性層（106）的厚度為100-300nm。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述第二電極（110）的厚度為40-100nm。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述第二電極（110）為銀納米線電極。