[發明專利]一種傾斜濺射工藝制備漸變折射率減反射膜的方法在審
| 申請號： | 201610426332.5 | 申請日： | 2016-06-16 |
| 公開（公告）號： | CN105951051A | 公開（公告）日： | 2016-09-21 |
| 發明（設計）人： | 田麗;吳敏 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學;上海空間電源研究所 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 哈爾濱龍科專利代理有限公司 23206 | 代理人： | 高媛 |
| 地址： | 150000 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 傾斜 濺射 工藝 制備 漸變 折射率 減反射膜 方法 | ||
【權利要求書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工業大學;上海空間電源研究所，未經哈爾濱工業大學;上海空間電源研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610426332.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
