[發(fā)明專利]一種偏光層的制備方法、顯示基板組件、顯示面板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610422764.9
• 申請(qǐng)日: 2016-06-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105866876B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 白冰;劉曉鋒;孫含嫣;李曉虎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/30
• 分類號(hào): G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 柴亮,張?zhí)焓?/td>

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種偏光層的制備方法、顯示基板組件、顯示面板。

背景技術(shù)

目前常用的偏光膜一般為高分子二色性型，其以高分子薄膜例如聚乙烯醇(PVA，polyvinyl acetate)作為偏光基體，吸附碘系(Iodine Type)或染料系(Dye Type)等二色性物質(zhì)，使碘離子或染料擴(kuò)散、滲入至內(nèi)層PVA中，堿處理后微熱拉伸PVA膜形成。

發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題：現(xiàn)有偏光膜用于大視角顯示時(shí)有強(qiáng)烈漏光性，必須搭配廣視角膜來(lái)達(dá)到高對(duì)比效果；其耐候性不良、機(jī)械性能好，需外貼保護(hù)膜以加強(qiáng)機(jī)械性能；其只能外貼于顯示器外部使用。

金屬式偏光片的研究由來(lái)已久，金屬式偏光膜的偏光度約為99％，穿透度約為44.49％左右，與此同時(shí)，金屬式偏光片可以將未投過(guò)的光線反射回背光源，改變偏振角度后重新投入偏光片實(shí)現(xiàn)增亮，但是制備困難，且現(xiàn)有技術(shù)中無(wú)法將其做到顯示器內(nèi)部。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有的金屬式偏光片制備困難，且無(wú)法將其做到顯示器內(nèi)部的問(wèn)題，提供一種偏光層的制備方法、顯示基板組件、顯示面板。

解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種偏光層的制備方法，包括以下步驟：

對(duì)位于趨磁細(xì)菌溶液中的襯底施加磁場(chǎng)，以使趨磁細(xì)菌排布于襯底上；

向所述溶液中引入金屬離子，以使襯底上的趨磁細(xì)菌吸附金屬離子并將金屬離子還原成金屬單質(zhì)；

通過(guò)光刻工藝去除部分所述金屬單質(zhì)，以使襯底上形成具有偏光軸的金屬線陣列。

優(yōu)選的是，所述襯底由聚乙烯醇或玻璃構(gòu)成。

優(yōu)選的是，所述襯底為彩膜基板或陣列基板。

優(yōu)選的是，所述趨磁細(xì)菌的溶液中趨磁細(xì)菌的濃度為2-6g/L。

優(yōu)選的是，所述趨磁細(xì)菌引入金屬離子是所述趨磁細(xì)菌加入可溶性金屬鹽的溶液，所述可溶性金屬溶液的pH值為1-5。

優(yōu)選的是，所述可溶性金屬鹽為金的可溶性鹽。

優(yōu)選的是，所述可溶性金屬溶液中金屬離子濃度為20-80mg/L。

本發(fā)明還提供一種顯示基板組件，包括顯示基板，所示顯示基板上設(shè)有偏光層，所述偏光層為按上述方法以顯示基板為襯底在其上形成的偏光層。

優(yōu)選的是，所述偏光層上還設(shè)有保護(hù)層。

本發(fā)明還提供一種顯示面板，包括兩個(gè)對(duì)盒的顯示基板和設(shè)于基板上的偏光層，其中至少一個(gè)顯示基板和其上的偏光層為上述的顯示基板組件。

優(yōu)選的是，所述偏光層形成在顯示基板靠近另一顯示基板的一側(cè)。

本發(fā)明利用生物技術(shù)制備金屬式偏光層，采用襯底上的趨磁細(xì)菌吸附金屬離子并使之還原形成金屬單質(zhì)，然后使襯底上形成具有偏光軸的金屬線陣列，得到金屬式偏光層。其中，該方法不僅制備工藝簡(jiǎn)單，成本低，且其制備的金屬式偏光層可以將未通過(guò)的光線反射回背光源，改變光線的偏振角度后重新投入偏光層實(shí)現(xiàn)增亮。本發(fā)明的顯示基板組件可以直接以彩膜基板或陣列基板作為襯底，按上述方法在其上形成內(nèi)置偏光層，該顯示基板組件適用于各種顯示面板。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的實(shí)施例1的偏光層的制備方法流程圖；

圖2-4為本發(fā)明的實(shí)施例2的偏光層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明的實(shí)施例3的顯示基板組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6-7為本發(fā)明的實(shí)施例4的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8-9為本發(fā)明的實(shí)施例2的偏光層中使趨磁細(xì)菌線狀排布的制備示意圖；

其中，附圖標(biāo)記為：10、偏光層；1、襯底；2、趨磁細(xì)菌；21、光刻膠；22、掩膜版；3、金屬單質(zhì)；5、保護(hù)層；6、顯示基板；61、陣列基板；62、彩膜基板。

具體實(shí)施方式

為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

實(shí)施例1：

本實(shí)施例提供一種偏光層的制備方法，如圖1所示，包括以下步驟：

S01、對(duì)位于趨磁細(xì)菌溶液中的襯底施加磁場(chǎng)，以使趨磁細(xì)菌排布于襯底上；

S02、向所述溶液中引入金屬離子，以使襯底上的趨磁細(xì)菌吸附金屬離子并將金屬離子還原成金屬單質(zhì)；

S03、通過(guò)光刻工藝去除部分所述金屬單質(zhì)，以使襯底上形成具有偏光軸的金屬線陣列。

本實(shí)施例利用生物技術(shù)制備金屬式偏光層，其制備工藝簡(jiǎn)單，成本低，該方法制備的金屬式偏光層可以將未通過(guò)的光線反射回背光源，改變光線的偏振角度后重新投入偏光層實(shí)現(xiàn)增亮，增強(qiáng)光能量的利用率。