[發(fā)明專利]一種高方阻太陽能電池的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610420831.3 | 申請日: | 2016-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN106057970B | 公開(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王英超;王紅芳;徐卓;宋登元 | 申請(專利權)人: | 英利能源(中國)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/02 |
| 代理公司: | 石家莊國為知識產(chǎn)權事務所13120 | 代理人: | 李榮文 |
| 地址: | 071051 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高方阻 太陽能電池 制作方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及太陽能電池技術領域,尤其是一種高方阻太陽能電池的制作方法。
背景技術
晶硅太陽能電池已經(jīng)被大規(guī)模應用到各個領域,其良好的穩(wěn)定性和成熟的工藝流程是其大規(guī)模應用的基礎。隨著技術的進步,晶硅電池的轉(zhuǎn)換效率也得到了很大的提升,例如選擇性發(fā)射極電池、IBC電池等,在制作選擇性發(fā)射極的方法中,一種方法是在方阻較高的硅片上進行區(qū)域性重摻雜,從而使硅片表面形成重摻雜區(qū)和輕摻雜區(qū),選擇性發(fā)射極可以提高太陽電池的開路電壓Voc,短路電流Isc,使電池獲得高的光電轉(zhuǎn)換效率。
現(xiàn)有高方阻硅片的制作方法有離子注入法、管式擴散法等。
離子注入選擇性發(fā)射極電池的工藝流程為:硅片制絨、離子注入高方阻PN結、PN結印刷磷漿料、高溫推進、形成重摻雜區(qū)、制作氮化硅膜、印刷、燒結、測試。可以看出現(xiàn)有的制作高方阻硅片工序較多,該方法制作的高方阻硅片均勻性較好,但是該方法離子注入設備非常昂貴,大量制作會產(chǎn)生較高的設備維護費用。
管式擴散選擇性發(fā)射極電池的工藝流程為:硅片制絨、PN結印刷磷漿料、形成重摻雜區(qū)、管式擴散制作高方阻PN結、同時高溫推進重摻雜區(qū)、濕法刻蝕清洗、制作氮化硅膜、印刷、燒結、測試。管式擴散設備較便宜,也可以大量生產(chǎn),但是管式擴散設備在設計上存在不可改變的缺陷,制作的高方阻硅片均勻性很差,對后續(xù)太陽能電池的參數(shù)造成影響。怎樣把這些新技術應用到大規(guī)模的生產(chǎn)中是我們現(xiàn)階段研究的重點。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種高方阻太陽能電池的制作方法,該方法制作工藝簡單、設備投資及設備維護費用低、制作成本低,并能夠制作均勻的高方阻硅片,提高光電轉(zhuǎn)換效率,適于大規(guī)模生產(chǎn)。
為解決上述技術問題,本發(fā)明所采取的技術方案是:一種高方阻太陽能電池的制作方法,包括以下步驟:
A、按比例配置混合酸水溶液;混合酸水溶液為硝酸和氟化物的水溶液,占總?cè)芤旱捏w積配比為硝酸50%-65%,氟化物0.3-1.5%;
B、把去除磷硅玻璃或硼硅玻璃的硅片放入混合酸水溶液中進行清洗;
C、然后再把硅片放入純水中清洗;
D、烘干。
其中,混合酸水溶液采用65%的硝酸溶液和40%的氟化物溶液配制而成。
步驟A中所述的氟化物為氟化氫銨或氟化鈉中的一種。
步驟B中,清洗時間為2-8分鐘,清洗過程要求放置混合酸水溶液的槽中不伴隨鼓泡,溫度控制在15-25度。
步驟C中,清洗2-8分鐘,清洗過程要求在帶有超聲的槽中進行且伴隨鼓泡,純水的溫度控制在20-25度。
步驟D中,烘干溫度70-80度,時間15-20分鐘。
采用上述技術方案所產(chǎn)生的有益效果在于:利用本發(fā)明制作的高方阻硅片,硅片均勻性好、制作工藝簡單、技術要求低,無需昂貴的設備及較大的設備維護費,制作成本低,可以大規(guī)模的應用到高效晶硅太陽能電池的制作中。
具體實施方式
為了更好的理解本發(fā)明設計構思,下面結合具體實施例來說明本發(fā)明的技術方案,但本發(fā)明并不局限于此。
本發(fā)明的基本方案為:混合酸水溶液濃度按方阻要求配置,溶液含有氟化物、硝酸等,假設溶液總量是1,那么硝酸配比范圍是50%-65%,氟化氫銨的配比范圍是0.3-1.5%,本發(fā)明混合酸水溶液是使用濃度為65%的硝酸溶液和濃度40%的氟化物的溶液配制而成,其中氟化物如氟化鈉、氟化氫銨等;然后把去除磷硅玻璃或硼硅玻璃的晶硅類產(chǎn)品放入配置好的混合酸水溶液中,進行清洗,清洗時間2-8分鐘,清洗過程要求槽中不伴隨鼓泡,溫度控制在15-25度;然后把硅片再放入純水中清洗2-8分鐘,清洗過程要求在帶有超聲的槽中進行且伴隨鼓泡,純水的溫度控制在20-25度;最后把硅片再放入烘干槽中進行烘干,烘干溫度70-80度,時間15-20分鐘,烘干后即可得到相應的均勻的高方阻硅片。
其中,在混合酸水溶液中不伴隨鼓泡,是為了避免反應過于迅速劇烈,清洗不均勻而會損壞硅片;而在純水中伴隨鼓泡,利于清洗干凈,另外,采用帶有超聲的槽,能夠提供振動,利于硅片清洗干凈。
下面列舉三個具體實施例以詳細解釋本發(fā)明的技術方案
實施例一
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





