[發明專利]一種真空磁控濺射鍍膜設備在審
| 申請號： | 201610415443.6 | 申請日： | 2016-06-14 |
| 公開（公告）號： | CN105970173A | 公開（公告）日： | 2016-09-28 |
| 發明（設計）人： | 蘇貴方 | 申請（專利權）人： | 肇慶市大力真空設備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人： | 梁睦宇 |
| 地址： | 526060 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 磁控濺射 鍍膜 設備 | ||
【說明書】：
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