[發(fā)明專利]一種低碳烷烴的固定床脫氫工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610412996.6 | 申請日： | 2016-06-13 |
| 公開（公告）號： | CN107486196B | 公開（公告）日： | 2020-04-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李長明;周金波;李博;王艷飛;李秋穎;程中克;茍文甲;董炳利;唐迎春;馬艷捷 | 申請（專利權）人： | 中國石油天然氣股份有限公司 |
| 主分類號： | B01J23/26 | 分類號： | B01J23/26;B01J23/86;C07C5/333;C07C11/06;C07C11/08 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 高龍鑫;王玉雙 |
| 地址： | 100007 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 烷烴 固定床 脫氫 工藝 | ||
1.一種低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于低碳烷烴原料進入填裝鉻系脫氫催化劑的固定床反應器中進行脫氫反應，所述鉻系脫氫催化劑的制備方法是將高價鉻前驅物溶于能使其還原為低價鉻的還原劑溶液里，再浸漬到氧化鋁基載體中，洗滌、過濾、干燥制得。
2.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述的高價鉻前驅物選自CrO3、(NH4)2Cr2O7、Na2Cr2O7、K2Cr2O7、(NH4)2CrO4、Na2CrO4和K2CrO4中的一種或幾種。
3.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述還原劑溶液選自含有乙二醇、丙三醇、葡萄糖、草酸或抗壞血酸組分的水溶液。
4.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述還原劑溶液為含有葡萄糖、草酸或抗壞血酸組分的水溶液時，葡萄糖、草酸或抗壞血酸組分的質量濃度為1wt.％～60wt.％，優(yōu)選為3wt.％～30wt.％。
5.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述浸漬的溫度為30～200℃，優(yōu)選為60～150℃。
6.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述浸漬的時間為0.5～20h，優(yōu)選為0.5～6h。
7.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述還原劑與高價鉻前驅物的摩爾比為0.5～10：1，優(yōu)選為1～5:1。
8.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述氧化鋁基載體為氧化鋁載體或含有耐熔無機氧化物的氧化鋁載體。
9.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述的鉻系脫氫催化劑的制備方法中，在浸漬氧化鋁基載體并干燥之后，還浸漬功能助劑，然后再經干燥、焙燒后得到所述的鉻系脫氫催化劑。
10.如權利要求9所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述功能助劑選自Na、K、Ca、Sr、La、Sn、Cu、Ni、Co、Fe和Zn中的一種或幾種的硝酸鹽或乙酸鹽。
11.如權利要求9所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述鉻系脫氫催化劑中Cr2O3的含量為3wt.％～20wt.％，功能助劑含量為0.5wt.％～6wt.％。
12.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述固定床脫氫反應溫度為550～650℃。
13.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述的固定床脫氫反應壓力為0.05～0.3MPa。
14.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述的低碳烷烴質量空速為0.1～10h-1。
15.如權利要求1所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述的固定床反應器在線時間為0.1～1.0h，之后進行切換，進入再生模式。
16.如權利要求15所述的低碳烷烴脫氫工藝，其特征在于所述的固定床再生模式時：再生溫度為630～720℃，再生壓力為0.05～0.3MPa。
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