[發明專利]一種銪摻雜氧化釓發光材料、制備方法及其應用

在審

• 申請號: 201610410969.5
• 申請日: 2016-06-13
• 公開（公告）號: CN106635005A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 鄭甘裕
• 申請（專利權）人: 鄭甘裕
• 主分類號: C09K11/78
• 分類號: C09K11/78;H01L33/26
• 代理公司: 深圳青年人專利商標代理有限公司44350
• 代理人: 傅俏梅

1.一種銪摻雜氧化釓發光材料，其特征在于：其化學式為Gd₂O₃:xEu³⁺，其中，x的值為0.01～0.08。

2.一種銪摻雜氧化釓發光材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

根據Gd₂O₃:xEu³⁺各元素的化學計量比稱取，其中，x為0.01～0.08，優選0.05；及

有機源分別選用三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)釓Gd(DPM)₃和三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)銪Eu(DPM)₃，其摩爾比為1-x：x，

用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽至1.0×10^-2Pa～1.0×10^-3Pa，襯底進行700℃熱處理10～30分鐘，調節襯底托的轉速為50～1000轉/分，通入載氣Ar氣，氣流量為5～15sccm，然后通入氧氣，流量為10～200sccm，開始薄膜的沉積，得到化學式為Gd₂O₃:xEu³⁺的材料。

3.一種銪摻雜氧化釓發光薄膜，其特征在于，該銪摻雜氧化釓發光薄膜的材料的化學通式為Gd₂O₃:xEu³⁺，其中，x為0.01～0.08。

4.如權利要求3所述銪摻雜氧化釓發光薄膜，其特征在于，所述薄膜的厚度為80～300nm。

5.如權利要求4所述銪摻雜氧化釓發光薄膜，其特征在于，所述薄膜的厚度為150nm。

6.一種銪摻雜氧化釓薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

根據Gd₂O₃:xEu³⁺各元素的化學計量比稱取，其中，x為0.01～0.08；及

有機源分別選用三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)釓Gd(DPM)₃和三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)銪Eu(DPM)₃，其摩爾比為1-x：x，

用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽至1.0×10^-2Pa～1.0×10^-3Pa，襯底進行700℃熱處理10～30分鐘，調節襯底托的轉速為50～1000轉/分，通入載氣Ar氣，氣流量為5～15sccm，然后通入氧氣，流量為10～200sccm，開始薄膜的沉積，得到化學式為Gd₂O₃:xEu³⁺的薄膜。

7.如權利要求6所述銪摻雜氧化釓發光薄膜的制備方法，其特征在于，所述真空腔體的真空度為4.0×10^-4Pa，襯底底5、根據權利要求4所述的銪摻雜氧化釓發光薄膜的制備方法，托的轉速為300轉/分，Ar氣流量為10sccm，氧氣流量為120sccm。

8.一種薄膜電致發光器件，該薄膜電致發光器件包括依次層疊的襯底、陽極層、發光層以及陰極層，其特征在于，所述發光層的材料為銪摻雜氧化釓發光材料，該銪摻雜氧化釓發光材料的化學式為Gd₂O₃:xEu³⁺，其中，x為0.01～0.08。

9.一種薄膜電致發光器件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供具有陽極的襯底；

在所述陽極上形成發光層，所述發光層的材料為銪摻雜氧化釓發光材料，該銪摻雜氧化釓發光材料的化學式為Gd₂O₃:xEu³⁺，其中，x為0.01～0.08；

在所述發光層上形成陰極。

10.根據權利要求9所述的薄膜電致發光器件的制備方法，其特征在于，所述發光層的制備包括以下步驟：

根據Gd₂O₃:xEu³⁺各元素的化學計量比稱取，其中，x為0.01～0.08；及

有機源分別選用三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)釓Gd(DPM)₃和三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)銪Eu(DPM)₃，其摩爾比為1-x：x，

用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽至1.0×10^-2Pa～1.0×10^-3Pa，襯底進行700℃熱處理10～30分鐘，調節襯底托的轉速為50～1000轉/分，通入載氣Ar氣，氣流量為5～15sccm，然后通入氧氣，流量為10～200sccm，開始薄膜的沉積，得到化學式為Gd₂O₃:xEu³⁺的材料。