[發(fā)明專利]半色調(diào)掩模板及TFT基板的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610402645.7 | 申請日： | 2016-06-07 |
| 公開（公告）號： | CN105892221B | 公開（公告）日： | 2019-10-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 莫超德 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/32 | 分類號： | G03F1/32;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 色調(diào) 模板 tft 制作方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市華星光電技術(shù)有限公司，未經(jīng)深圳市華星光電技術(shù)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610402645.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
- 圖像處理電路、圖像顯示裝置以及圖像處理方法
- 色調(diào)劑供給裝置
- 色調(diào)劑容器，色調(diào)劑補給裝置及圖像形成裝置
- 圖像形成裝置及其色調(diào)劑接近用完通知方法
- 半色調(diào)掩模板結(jié)構(gòu)及其制造方法
- 靜電荷圖像顯影用色調(diào)劑組、顯影劑組和色調(diào)劑盒組
- 色調(diào)劑組、白色色調(diào)劑、顯影劑、色調(diào)劑盒、處理盒、圖像形成設(shè)備和圖像形成方法
- 光輝性色調(diào)劑、色調(diào)劑、顯影劑、色調(diào)劑盒、處理盒、圖像形成裝置和圖像形成方法
- 一種多模態(tài)半色調(diào)圖像的逆半色調(diào)化方法
- 圖像處理方法及裝置
