[發明專利]光刻設備有效
| 申請號： | 201610399137.8 | 申請日： | 2012-03-21 |
| 公開（公告）號： | CN105892239B | 公開（公告）日： | 2019-09-17 |
| 發明（設計）人： | T.勞弗 | 申請（專利權）人： | 卡爾蔡司SMT有限責任公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 邱軍 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 | ||
【權利要求書】：
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