[發(fā)明專利]清潔裝置、組裝體以及圖像形成裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610397929.1 | 申請日: | 2016-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN106647199B | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 加納富由樹;六反實 | 申請(專利權(quán))人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/02 | 分類號: | G03G15/02 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清潔 裝置 組裝 以及 圖像 形成 | ||
本發(fā)明公開了一種清潔裝置、組裝體以及圖像形成裝置。該清潔裝置包括清潔部件。清潔部件包括軸部和彈性層。軸部設(shè)置為沿待清潔的旋轉(zhuǎn)的被清潔物體的旋轉(zhuǎn)軸方向延伸。彈性層呈螺旋狀地設(shè)置在軸部的外周面上從軸向的一端部至另一端。彈性層接觸被清潔物體的外周面以及被清潔物體在旋轉(zhuǎn)軸方向上的至少一個端面。垂直于被清潔物體的軸截取的被清潔物體的橫截面面積Sa和在被清潔物體的一次旋轉(zhuǎn)過程中彈性層與被清潔物體的在旋轉(zhuǎn)軸方向上的至少一個端面接觸的部分的累積總接觸面積Sb之間的關(guān)系滿足0.11≤Sb/Sa<0.30。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種清潔裝置、組裝體以及圖像形成裝置。
背景技術(shù)
日本專利文獻特開2012-014011號公報公開了一種包括清潔部件的圖像形成裝置,該清潔部件清潔諸如充電輥的被清潔物體。該清潔部件包括芯體和呈螺旋狀纏繞芯體的外周面的彈性層。當(dāng)清潔部件的彈性層的外周面與旋轉(zhuǎn)的被清潔物體的外周面接觸時,驅(qū)動清潔部件旋轉(zhuǎn),從而使得清潔部件的彈性層擦拭被清潔物體的外周面。
在此,如果被清潔物體在軸向上的端部延伸超過清潔部件在軸向上的端部,清潔部件不與被清潔物體在軸向上的端面接觸。因此,從被清潔物體的外周面移動至被清潔物體在軸向上的端面的異物或在裝置內(nèi)部的空氣中漂浮后附著在被清潔物體在軸向上的端面上的異物更趨向于累積在軸向的端面上。這樣的異物的累積由于異物附著在被清潔物體的軸部(軸)并進入軸部和支撐軸部的軸承之間的空間,可能會導(dǎo)致被清潔物體的旋轉(zhuǎn)錯誤。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,與以下的情況相比可減少待清潔的被清潔物體的旋轉(zhuǎn)錯誤,該情況為:垂直于被清潔物體的軸截取的橫截面面積Sa和在被清潔物體的一次旋轉(zhuǎn)過程中清潔部件的彈性層與被清潔物體的在旋轉(zhuǎn)軸方向上的端面接觸的部分的累積總接觸面積Sb之間的關(guān)系不滿足0.11≤Sb/Sa<0.30。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面,清潔裝置包括清潔部件。清潔部件包括設(shè)置為沿待清潔的旋轉(zhuǎn)的被清潔物體的旋轉(zhuǎn)軸方向延伸的軸部,以及在所述軸部的外周面上從軸向的一端部至另一端部呈螺旋狀設(shè)置的彈性層。所述彈性層接觸所述被清潔物體的外周面以及所述被清潔物體在所述旋轉(zhuǎn)軸方向上的至少一個端面。在所述裝置中,垂直于所述被清潔物體的軸截取的所述被清潔物體的橫截面面積Sa和在所述被清潔物體的一次旋轉(zhuǎn)過程中所述彈性層與所述被清潔物體的在所述旋轉(zhuǎn)軸方向上的所述至少一個端面接觸的部分的累積總接觸面積Sb之間的關(guān)系滿足0.11≤Sb/Sa<0.30。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面,垂直于所述被清潔物體的所述軸截取的所述被清潔物體的所述橫截面面積Sa和在所述被清潔物體的一次旋轉(zhuǎn)過程中所述彈性層與所述被清潔物體的在所述旋轉(zhuǎn)軸方向上的所述端面接觸的部分的所述累積總接觸面積Sb之間的所述關(guān)系滿足0.15≤Sb/Sa<0.25。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面,所述彈性層在所述軸部的所述軸向上的端部的圓周方向上的寬度寬于在所述軸部的所述軸向上的中間部的所述圓周方向上的寬度。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面,所述彈性層在所述軸部的所述軸向上的端部的圓周方向上的寬度與所述彈性層在所述軸部的所述軸向上的中間部的所述圓周方向上的寬度之間的比例(在所述軸向上的端部的周向覆蓋寬度/在所述軸向上的中間部的周向覆蓋寬度)大于或等于1.1。
根據(jù)本發(fā)明的第五方面,所述彈性層在所述軸部的所述軸向上的端部的所述圓周方向上的寬度與所述彈性層在所述軸部的所述軸向上的中間部的所述圓周方向上的寬度之間的比例(在所述軸向上的端部的周向覆蓋寬度/在所述軸向上的中間部的周向覆蓋寬度)大于或等于1.6。
根據(jù)本發(fā)明的第六方面,作為整體單元可裝卸地安裝在裝置主體的組裝體包括:能夠保持圖像并作為待充電的物體的圖像承載體;以及根據(jù)第一方面所述的清潔裝置。所述清潔裝置包括:充電器,其向所述圖像承載體充電并作為待清潔的所述被清潔物體:以及所述清潔部件,其接觸所述充電器的表面以清潔所述充電器的所述表面。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士施樂株式會社,未經(jīng)富士施樂株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610397929.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)





