[發(fā)明專利]鉭靶材組件及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610383100.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107447194A | 公開(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚力軍;潘杰;相原俊夫;大巖一彥;王學(xué)澤;段高林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;C23C18/36;C23C18/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227 | 代理人: | 徐文欣,吳敏 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鉭靶材 組件 及其 制造 方法 | ||
1.一種鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,包括:
提供鉭靶材、背板和焊料,所述鉭靶材包括第一焊接面,所述背板包括第二焊接面;
在所述鉭靶材第一焊接面上形成浸潤(rùn)層;
形成浸潤(rùn)層之后,通過所述焊料對(duì)所述鉭靶材第一焊接面與所述背板第二焊接面進(jìn)行焊接,形成鉭靶材組件。
2.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,所述浸潤(rùn)層的材料為鎳、銅或鋅。
3.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,所述浸潤(rùn)層的厚度為8μm~10um。
4.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,所述背板的材料為銅或鋁。
5.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,所述焊料的材料為In、SnAgCu或Sn。
6.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,在所述鉭靶材第一焊接面表面形成浸潤(rùn)層的工藝包括:化學(xué)鍍膜或物理氣相沉積工藝。
7.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,通過化學(xué)鍍膜形成所述浸潤(rùn)層的工藝參數(shù)包括:反應(yīng)溫度為86℃~90℃;反應(yīng)物包括:鎳鹽、次磷酸鈉、錯(cuò)酸鈉和氨水,所述反應(yīng)物的PH值為4.6~4.8。
8.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,在所述鉭靶材第一焊接面表面形成浸潤(rùn)層之前,還包括:對(duì)所述鉭靶材第一焊接面進(jìn)行粗糙處理。
9.如權(quán)利要求8所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,對(duì)所述鉭靶材第一焊接面進(jìn)行粗糙處理的步驟包括:對(duì)所述鉭靶材第一焊接面進(jìn)行噴砂處理。
10.如權(quán)利要求9所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,所述噴砂處理的工藝參數(shù)包括:砂粒的材料為46目白剛玉;噴砂機(jī)空氣壓力范圍在 0.3MPa~0.35MPa;噴射距離為100mm~200mm;噴射角度為30°~60°。
11.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,在所述鉭靶材第一焊接面表面形成浸潤(rùn)層的步驟之前,所述形成方法還包括:對(duì)所述鉭靶材第一焊接面進(jìn)行活化處理,所述活化處理用于去除鉭靶材第一焊接面上的氧化層。
12.如權(quán)利要求11所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,所述活化處理的工藝參數(shù)包括:反應(yīng)溶液為硝酸和氫氟酸的混合溶液;活化處理的時(shí)間為55s~65s。
13.如權(quán)利要求12所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,反應(yīng)溶液中硝酸與氫氟酸的濃度的比值在2~4的范圍內(nèi)。
14.如權(quán)利要求1所述的鉭靶材組件的制造方法,其特征在于,對(duì)所述鉭靶材第一焊接面與所述背板第二焊接面進(jìn)行焊接的步驟包括:
在所述浸潤(rùn)層表面和所述背板第二焊接面上放置焊料;
加熱所述鉭靶材和背板至所述焊料熔化;
所述焊料熔化之后,將所述浸潤(rùn)層表面和所述背板第二焊接面貼合,實(shí)現(xiàn)焊接。
15.一種鉭靶材組件,其特征在于,包括:
鉭靶材,所述鉭靶材包括第一焊接面;
位于鉭靶材第一焊接面上的浸潤(rùn)層;
位于所述浸潤(rùn)層上的背板,所述背板包括第二焊接面,所述第二焊接面朝向所述浸潤(rùn)層;
位于所述背板第二焊接面和所述浸潤(rùn)層之間的焊料。
16.如權(quán)利要求15所述的鉭靶材組件,其特征在于,所述浸潤(rùn)層的材料為鎳。
17.如權(quán)利要求15所述的鉭靶材組件,其特征在于,所述浸潤(rùn)層的厚度為8μm~10um。
18.如權(quán)利要求15所述的鉭靶材組件,其特征在于,所述背板的材料為銅或鋁。
19.如權(quán)利要求15所述的鉭靶材組件,其特征在于,所述焊料的材料為In、SnAgCu或Sn。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧波江豐電子材料股份有限公司,未經(jīng)寧波江豐電子材料股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610383100.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種金屬掩膜及其制備方法
- 下一篇:磁控管及磁控濺射系統(tǒng)
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





